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标题: [求助]几种调Q技术的详细比较和使用区别 [打印本页]

作者: Justing 时间: 2010-7-6 11:02
标题: [求助]几种调Q技术的详细比较和使用区别
就目前主要的几种调Q技术。声光，电光，被动，半导体可饱和吸收体调Q技术，请大家来做一个总结。
他们的使用晶体都有哪些，性能参数，使用条件，应用范围，优缺点，现在的发展情况，知名的生产厂家等。大家来做一个讨论。
不胜感激！

作者: 橡树 时间: 2010-7-6 14:52

作者: Justing 时间: 2010-7-12 16:19
为什么没有人回复呢？

作者: 林理义 时间: 2010-7-12 17:30

太高了，够不到

作者: Justing 时间: 2010-7-13 15:53
算了，我自己来贴，大家斧正一下。
电光调Q是利用某些晶体所具有的线性电光效应实现Q值突变的，具有开关时间短、效率高、调Q的时刻可以精确控制、系统工作稳定、重复频率高、输出脉宽窄（10~20ns）、峰值功率高（几十兆瓦以上）等优点。晶体有KD*P，KTP，BBO，RTP等。
声光调Q是利用激光通过声光介质中的超声场时发生衍射效应，造成光束的偏折来控制谐振腔的损耗，从而实现Q值突变的。它具有性能稳定、重复频率高（1~20kHz）、调制电压低（一般＜200V）等优点，适用于中小功率、高重频的脉冲激光器。晶体TeO2，P6M0O4，SiO2等。
电光调Q或声光调Q都是人为地利用光通过在电场或声波场作用下的电光或声光介质所发生的各种物理效应，从而控制腔内的反射损耗来实现Q值突变的，是一种主动式的调Q方法。
而可饱和吸收调Q技术，则是利用可饱和吸收体本身的吸收特性（即它是一种非线性吸收介质，在比较强的激光作用下，它的吸收系数会随光强的增加而逐渐减小直至饱和，对光呈现出透明的特性），通过控制腔内的吸收损耗来调节Q值的，是一种被动式的调Q方法，它具有结构简单、方便实用的特点。有染料调Q和被动晶体调Q，如Cr4+:YAG.
半导体可饱和吸收体（SESAM）技术出现于1992年，现已广泛地应用于固体激光器和光纤激光器，以实现短脉冲或超短脉冲。SESAM的基本结构就是把反射镜与吸收体结合在一起。底层一般为半导体反射镜，其上生长一层半导体可饱和吸收体薄膜，最上层可能生长一层反射镜或直接利用半导体与空气的界面作为反射镜。这上下两个反射镜就形成了一个法布里-珀罗腔，改变吸收体的厚度以及两反射镜的反射率，可以调节吸收体的调制深度和反射镜带宽。

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