光电工程师社区

标题: 联电完成集成电路晶圆产品水足迹查证 [打印本页]

作者: 乏味    时间: 2010-8-27 08:08
标题: 联电完成集成电路晶圆产品水足迹查证

中国台湾晶圆代工厂联华电子(UMC)宣布领先业界率先完成8吋及12吋集成电路晶圆“产品水足迹”查证,并获颁由立恩威验证公司 (DNV)发出之第三者(third-party)独立查证声明书。

联华表示是遵循非营利国际组织Water Footprint Network所发展的企业水足迹会计(Business Water FootprintAccounting)准则,由国际权威之验证机构挪威商立恩威验证公司 (DNV),进行力行厂区(包含Fab8A/8C/8D厂)与FAB12A厂的产品水足迹盘查。

联华副总经理廖木良表示,随水资源匮乏问题逐渐发烧,及全球各地水患及干旱等极端气候事件频仍,身为跨国性企业领导者,联华更加体认到水资源的管理已不仅是环保议题,更是产业营运风险及人类永续生存议题。因此继去年完成产品碳足迹盘查并积极展开减碳行动后,开始进行产品水足迹盘查,以作为拟定有效节水策略及达到水资源利用最佳化的基础。

廖木良强调,这次领先业界完成水足迹盘查,代表的不仅是完整、科学且可靠的信息揭露,更证明联华电子具有及早掌握与因应国际环保趋势,并协助客户产出绿色产品的能力,也是企业重视社会责任的表现。




欢迎光临 光电工程师社区 (http://bbs.oecr.com/) Powered by Discuz! X3.2