光电工程师社区
标题:
基片的测试反射率与理论差别很大,问题出在哪里?
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作者:
ferry
时间:
2010-10-8 09:24
标题:
基片的测试反射率与理论差别很大,问题出在哪里?
本帖最后由 ferry 于 2010-10-8 09:35 编辑
测试了一种玻璃基片,(折射率与K9相差不多,约为1.52),理论计算,基片的双面反射率应该在8.2%左右,实际测试表明:基片的测试反射率与理论差别很大,一是总体反射率偏高;二是整体曲线起伏大,尤其是750-850间,结合测试的平滑透过曲线,这反射曲线肯定是有问题的,因为是别人测试的,且测试人员不太明白光学方面的,他也说不出所以然来,想问下论坛上搞测试的朋友,问题出在哪里?(测试入射角8度)
作者:
filmokay
时间:
2010-10-8 10:20
光谱仪检查下吧。然后自己测试下看看。
作者:
whpe2000
时间:
2010-10-8 10:22
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作者:
devilmc23
时间:
2010-10-8 10:41
紫外比可见反射率还低?你确定基底上没有镀膜吗?
作者:
ferry
时间:
2010-10-8 11:18
本帖最后由 ferry 于 2010-10-8 11:22 编辑
这个是单面打磨处理后的测试结果,还是比理论值偏大。
曲线起伏还是较大(同透射曲线相比)
作者:
月光宝盒
时间:
2010-10-8 11:53
基片的要求保证没有问题,和光度计准确,一般都是和理论相符的
作者:
filmokay
时间:
2010-10-8 12:04
先测试下其他的产品比如标准片看下光谱仪是否存在问题。走个基准看下。
作者:
bairuizheng
时间:
2010-10-8 12:55
看曲线好像出现干涉调制,是不是打磨的基片仍然厚度在几个微米内,加厚看看。
作者:
whpe2000
时间:
2010-10-9 12:04
提示:
作者被禁止或删除 内容自动屏蔽
作者:
缘睐汝痴
时间:
2011-3-31 20:53
谢谢了,我也正想发表这个问题,不知道是不是光谱仪不准,我们用的是奥林巴斯反射率仪器
作者:
qjy
时间:
2011-4-1 09:19
具体是啥问题我不敢说,但可以肯定是测试的问题。估计有可能对方的设备是测相对反射率的,其标准镜的反射率降低了,测出来的反射率也就相应的偏高了,用这种仪器测试高反膜的反射率甚至会测出110%以上的反射率值就是这个原因。
作者:
john03062003
时间:
2011-4-1 13:36
olympus 的设备不用表面打毛涂黑处理也可以测试啊,我觉得是不是镜片表面腐蚀掉了?
作者:
xiao2011
时间:
2011-6-3 18:56
作者:
ljwht
时间:
2011-6-13 10:18
qjy 发表于 2011-4-1 09:19
具体是啥问题我不敢说,但可以肯定是测试的问题。估计有可能对方的设备是测相对反射率的,其标准镜的反射率 ...
那你觉得该怎么解决呢
作者:
HGcoating
时间:
2011-6-13 13:09
你用什么设备来测试的,绝对反射一般设备测量不太容易。
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