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标题: 关于镀IR-CUT片子难擦的理解。 [打印本页]

作者: fql3310 时间: 2010-10-31 12:49
标题: 关于镀IR-CUT片子难擦的理解。
镀IR-CUT片子，片子80*80*0.3，镀膜机威特南光1100，有加霍尔离子源150V4A，烘烤温度230度，还有另外加两个充氧口在左右两个电子枪膜料边上。使用的膜料为TI3O5和SIO2.镀后片子难擦。

理解为:TI3O5和SIO2膜料附近的充氧口的充氧引起的。在此充氧时，真空度变得很低，镀膜功率变得更大，TI3O5膜层变得更粗糙，粗糙度变得更大，使得36层膜镀下来膜的表面粗糙得很，镀膜面不平整引起难擦干净。所以我的理解是镀后膜层粗糙引起表面不平整，也就是凹凸不平引起的难擦。希望有朋友一起探讨一下。我QQ：123831403

作者: eagle1 时间: 2010-11-4 22:56
你真的觉得镀膜的速度变大了吗？
你自己有计算吗？测试你镀完某一层的时间，就能计算镀膜的速度了。

作者: kingpeter 时间: 2010-11-24 23:15
工艺问题，排除法试试

作者: new1980 时间: 2010-12-3 12:56
最后一层应该没错，但不一定是充氧的问题

作者: fql3310 时间: 2011-1-1 10:39
忘了一个主要的因素，离子源充氧量为45SCCM,我用过的霍尔源15SCCM在南光700机上的充氧参数，估计充氧量大也是一个影响很重要的原因。

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