光电工程师社区

标题: 关于膜裂的问题 [打印本页]
作者: 宇轩    时间: 2011-2-24 15:56
标题: 关于膜裂的问题
在第一面镀40层以上介质膜，在镀完第二面后，第一面的膜层会出现膜裂的现象。就是表现在倾斜一定的角度观察，会发现镀膜片上有类似很多道划痕。但实际上是由膜层应力造成的膜裂。请问这类问题需要怎么改进？
作者: lmclyq    时间: 2011-2-24 22:28
作者: wlinliu    时间: 2011-2-25 17:39
炉内温度呢？是不是有点高？
作者: shuangzixing    时间: 2011-2-25 18:00
我们也发生过类似情况
作者: 宇轩    时间: 2011-2-26 08:29
烘烤温度在270度，在镀棱镜的时候，膜层的厚度达到6000NM以上时，取片后会发现边角有轻微的脱膜现象。棱镜上有粘高温胶带，棱镜的脱膜时高温胶带放气造成的还是镀膜工艺有问题呢？ 镀膜的工艺是有国产霍尔离子源辅助，阳极电流5A，压强采用的是恒定压强，也就是高/低折射率材料都是控制在1.7*10-2pa.
作者: optikma    时间: 2011-2-26 11:04
关注。。。
作者: yuvia_ye    时间: 2011-2-26 11:32
炉内温度是多少？第一个面镀的什么膜啊？
作者: yuvia_ye    时间: 2011-2-26 11:34
我们生产时有出现粘高温胶高温时镀制，有放气，挡边部分发白现象
作者: marcsle    时间: 2011-3-2 09:03
一、能否改工艺，先镀后面，然后才镀制40层膜，6000nm的膜毕竟太厚了，又是镀在棱镜上，应力太大了
二、镀完后把棱镜放入恒温箱恒温一段时间
三、把烘烤温度降下来，270度还加离子源，温度过高了
四、不知你的40层膜是什么氧化物膜料？如果是TI3O5之类的，你用恒压控制，不妥，能否改做流量控制

以上请参考，多谢
作者: wlinliu    时间: 2011-3-3 04:34
6000nm的膜太厚了,可能温度影响的,或许是因为太厚了,而不连贯的多次镀膜造成的影响
作者: xiao2011    时间: 2011-6-3 19:13
作者: chengqinshun    时间: 2011-6-5 22:21
xiao2011 发表于 2011-6-3 19:13

先镀一层AL2O3来抵消内应力,镀玩膜后让他自然冷却
作者: xiao2011    时间: 2011-6-5 23:30
chengqinshun 发表于 2011-6-5 22:21
先镀一层AL2O3来抵消内应力,镀玩膜后让他自然冷却

作者: E501559    时间: 2011-6-7 17:16
真空度是不是不稳定？
作者: ghtzna    时间: 2011-6-8 11:49
marcsle 发表于 2011-3-2 09:03
一、能否改工艺，先镀后面，然后才镀制40层膜，6000nm的膜毕竟太厚了，又是镀在棱镜上，应力太大了
二、镀 ...

这个很专业，需要降低温度和使用离子源吧。不要使用高温胶带，使用专门的镀膜环，并且膜裂是和清洗看一下超声波
作者: 缘睐汝痴    时间: 2011-8-13 12:41
顶
学习中
作者: cxm05371    时间: 2011-8-26 22:18
作者: 逐梦者    时间: 2011-8-28 12:55
没有反馈啊！
作者: fql3310    时间: 2011-8-28 22:10
AR降温没问题.多层膜也降温.(降60度以上.试一下.)
作者: putinzhenkong    时间: 2011-8-31 11:10
苏州普京真空技术有限公司生产销售如下光学镀膜材料：
氟化物：氟化镁(MgF2)，BaF2（氟化钡）,CaF2（氟化钙）,SrF2(氟化锶），SeF3(氟化钪），YF3(Ca)(氟化钇）,YbF3(Ca)（氟化镱）,LaF3（氟化镧）,LiF（氟化锂）,NdF3（氟化钕）,Na3AlF6(冰晶石)，Na5Al3F13(锥冰晶石）,AlF3(氟化铝）, ZrF4（氟化锆),HfF4(氟化铪),InF3（氟化铟）,TmF3（氟化铥）,DyF3（氟化镝）,HoF3（氟化钬）,LuF3（氟化镥）,ErF3（氟化铒）PrF3(氟化镨），PbF2(氟化铅),CeF3(氟化铈），GdF3(氟化钆），SmF3(氟化钐），EuF3(氟化铕），氟化铽（TbF3)

氧化物：二氧化硅(SiO2),一氧化硅（SiO）,五氧化钽 (Ta2O5), 五氧化二铌（Nb2O5），三氧化二铝（Al2O3）,氧化铈(CeO2)， 五氧化三钛（Ti3O5）, 二氧化钛（TiO2）, 一氧化钛(TiO)，三氧化二钛(Ti2O3)，氧化铪（HfO2），氧化锆（ZrO2），氧化镁（MgO），三氧二化铁(Fe2O3)
硫化物：硫化锌（ZnS）, 硒化锌（ZnSe）
混合物：锆钛混合物，锆钽混合物，钛钽混合物，氧化铟锡（ITO），H4替代品。
我公司镇江工厂从事光学镀膜材料生产近十年，有近十五台真空烧结炉，2台真空镀膜机做产品的检测，还通过第三方检测（SGS,CTI）,质量有保证，价格低廉。给客户最好性价比的产品。
好消息：我公司最近新研发的低气Ti3O5(五氧化三钛),放气量低，不喷溅，成膜后光学表面光洁度可做到10/20，质量与日本的OPTRON的OS-50相当，价格上却便宜很多，性价比特别高。适合做高端的红外截止滤光片（IR-CUT）、高反膜等。
联系人：董先生  手机：15950079695   电邮：dongxl@chinaputin.cn
地址：苏州高新区金狮大厦11楼

作者: putinzhenkong    时间: 2011-8-31 11:10
苏州普京真空技术有限公司生产销售如下光学镀膜材料：
氟化物：氟化镁(MgF2)，BaF2（氟化钡）,CaF2（氟化钙）,SrF2(氟化锶），SeF3(氟化钪），YF3(Ca)(氟化钇）,YbF3(Ca)（氟化镱）,LaF3（氟化镧）,LiF（氟化锂）,NdF3（氟化钕）,Na3AlF6(冰晶石)，Na5Al3F13(锥冰晶石）,AlF3(氟化铝）, ZrF4（氟化锆),HfF4(氟化铪),InF3（氟化铟）,TmF3（氟化铥）,DyF3（氟化镝）,HoF3（氟化钬）,LuF3（氟化镥）,ErF3（氟化铒）PrF3(氟化镨），PbF2(氟化铅),CeF3(氟化铈），GdF3(氟化钆），SmF3(氟化钐），EuF3(氟化铕），氟化铽（TbF3)

氧化物：二氧化硅(SiO2),一氧化硅（SiO）,五氧化钽 (Ta2O5), 五氧化二铌（Nb2O5），三氧化二铝（Al2O3）,氧化铈(CeO2)， 五氧化三钛（Ti3O5）, 二氧化钛（TiO2）, 一氧化钛(TiO)，三氧化二钛(Ti2O3)，氧化铪（HfO2），氧化锆（ZrO2），氧化镁（MgO），三氧二化铁(Fe2O3)
硫化物：硫化锌（ZnS）, 硒化锌（ZnSe）
混合物：锆钛混合物，锆钽混合物，钛钽混合物，氧化铟锡（ITO），H4替代品。
我公司镇江工厂从事光学镀膜材料生产近十年，有近十五台真空烧结炉，2台真空镀膜机做产品的检测，还通过第三方检测（SGS,CTI）,质量有保证，价格低廉。给客户最好性价比的产品。
好消息：我公司最近新研发的低气Ti3O5(五氧化三钛),放气量低，不喷溅，成膜后光学表面光洁度可做到10/20，质量与日本的OPTRON的OS-50相当，价格上却便宜很多，性价比特别高。适合做高端的红外截止滤光片（IR-CUT）、高反膜等。
联系人：董先生  手机：15950079695   电邮：dongxl@chinaputin.cn
地址：苏州高新区金狮大厦11楼

作者: wm1227    时间: 2011-8-31 19:07
   
作者: lu28hong    时间: 2011-9-18 17:58
作者: wangbin8918    时间: 2011-9-20 19:30
作者: wangliia    时间: 2012-7-3 16:58
学习下
作者: fql3310    时间: 2012-7-4 20:32
要学习你还不如去学习APS低温离子源和VEECO镀膜机的射频离子源。低温离子源，就算加温到200度，镀个50UM的厚度也还是那个温度。膜层致密且不会裂。



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