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标题: 挑战CMOS技术极限！欧洲组建共同项目 [打印本页]

作者: lottie 时间: 2004-3-17 03:40
标题: 挑战CMOS技术极限！欧洲组建共同项目
欧盟委员会将向挑战CMOS技术极限的欧洲共同项目“NANOCMOS”提供资金扶持。为了突破半导体性能与集成度的极限，该项目将在材料、工艺、元件及布线等领域掀起技术革命。

　　NANOCMOS项目将在2005年对在逻辑LSI技术节点上采用45nm（相当于hp65）工艺的可行性进行论证。同时还将开展32nm（hp45）及22nm（hp32）的研究活动。

　　参加该项目的企业除德国英飞凌科技（Infineon Technologies）、荷兰飞利浦电子、意法半导体之外，还有法国原子能部电子技术信息研究所（CEA Leti）、比利时IMEC、德国弗劳恩霍夫协会（FhG）旗下的三个研究所、法国国立科学研究中心（CNRS）旗下的八个研究所、德国独开姆尼斯工科大学的研究所。此外，法国Ion Beam Services、德国ISILTEC、比利时Magwel公司也分别参加了这一项目。负责项目管理业务的是法国ACIES Europe。

　　NANOCMOS项目的第一阶段将耗时27个月。除欧盟委员会赞助2400万欧元（约合人民币2.45亿元）之外，各项目成员也将进行研究投资以实现项目目标。项目成员计划就2006年开始的NANOCMOS项目第二阶段向欧盟委员会提出议案。

　　第二阶段将对实现32nm及22nm节点的可行性进行验证。将向欧洲的研究组织--MEDEA+提议从2006年开始在企业300mm晶圆生产设备中采用45nm技术节点并进行评估。从目前来看，可能会选择摩托罗拉、飞利浦、意法半导体三公司共同投资的法国Crolles第二工厂

作者: seanhwong 时间: 2004-3-17 10:39
标题: 挑战CMOS技术极限！欧洲组建共同项目
对阿
cmos pixels越做越小
对镜头挑战越来越大
手头上的规格已经是2.3um
比现有CCD还小
那下一代的镜头呢
如果到 1um 那MTF不是要看到500 lp/mm
我大概一辈子都很难做到吧
天真的希望不要在小了
要不然也等我老了以后再说

作者: seanhwong 时间: 2004-3-17 10:50
标题: 挑战CMOS技术极限！欧洲组建共同项目
我想应该更正我的想法
如果只是晶体管做小
在每个画素中塞入更多的晶体管
那ISO说不定可以达到3000以上
那何尝不事件好是
但是pixels真的不要再小了

只怕到时候又有人向LCOS一样拼命做小
好好的13, 14um的不做弄一个 7.5um
搞死做镜头的人了

作者: lottie 时间: 2004-3-17 16:05
标题: 挑战CMOS技术极限！欧洲组建共同项目
镜头的发展也不是静止的啊，当发展到一定程度，更高阶的镜头当然也会出现。

作者: seanhwong 时间: 2004-3-17 17:37
标题: 挑战CMOS技术极限！欧洲组建共同项目
是没错啦
但我想有很多会是有冲突的
材料上限制
体积compactness
如果没有新理论支持
我想会走得很辛苦
附上 CMOS发展趋势供你参考吧

作者: lottie 时间: 2004-3-17 20:14
标题: 挑战CMOS技术极限！欧洲组建共同项目
谢谢你的资料。
我感觉到现在行业内比较难做的是CCD和CMOS，能进入这个领域内的都有很强的实力。当然镜头也不好做，但是我觉得要是CMOS的技术能达到某一个台阶，相应的镜头也是可以开发出来的了，大家都会很辛苦，但是为了更好的品质，还是值得的。

作者: seanhwong 时间: 2004-3-18 00:07
标题: 挑战CMOS技术极限！欧洲组建共同项目
是呀大家互相加油吧

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