光电工程师社区

标题: 光胶的问题。。。。。 [打印本页]

作者: lzk    时间: 2003-3-28 22:44
标题: 光胶的问题。。。。。
各位做冷加工的大侠:小弟在做片子的时候。将双面抛光后的晶片用光胶法胶合上后将另一面磨W40的砂。下盘后面形为什么会发生严重的变化。纳闷。。。。。。。。。
谁能帮我解释一下。。。。。。
作者: casix    时间: 2003-3-28 23:33
标题: 光胶的问题。。。。。
哪种晶片,尺寸多大
作者: wjf990    时间: 2003-3-29 08:22
标题: 光胶的问题。。。。。
  工件厚径比是不是有点大呢?对薄形光学零件的加工,是要考虑下盘后的变形量来对加工中的面形进行控制。比如下盘前观察光圈为+2,符合完工要求了,可下盘后再观察却成+5了,那我们再加工时,下盘前就控制光圈为-1,如果变形量差不太多的话,变化后光圈应该在+2左右吧,相应就人为的补偿了部分变形量哦!呵呵。。。。
作者: lzk    时间: 2003-3-31 19:29
标题: 光胶的问题。。。。。
多谢楼上的两位老兄回复,我的片子直径是50.8mm,厚度为0。43mm.下盘后的面形要求为5um,
作者: leehunter    时间: 2003-3-31 19:58
标题: 光胶的问题。。。。。
由于光胶的应力会使薄片下盘后变形,尤其是很薄的片子
作者: 寇战士    时间: 2003-3-31 23:09
标题: 光胶的问题。。。。。
你可以试一试用双面抛光法,这种方法的变形量很小。
作者: casix    时间: 2003-4-1 00:58
标题: 光胶的问题。。。。。
光胶应该没什么应力
作者: leehunter    时间: 2003-4-1 01:29
标题: 光胶的问题。。。。。
你在上盘的时候胶是热的,等胶冷却后会收缩,因此带来应力变化,虽然很小,但是对于高精度的抛光来说,尤其对于较薄的片子,就会产生比较明显的变形。要不然真零级的波片怎么会这么难加工?
作者: lzk    时间: 2003-4-1 17:41
标题: 光胶的问题。。。。。
但是我采用的是光胶就是没有胶了。双面抛光是不会变形,但是我需求的片子就要单面抛光的。有没有什么高招能避免吗?
bow!!!
作者: leehunter    时间: 2003-4-1 18:31
标题: 光胶的问题。。。。。
惭愧惭愧,看错了!
作者: 欣欣    时间: 2003-4-4 17:37
标题: 光胶的问题。。。。。
个位高手、我是新手请多帮助
作者: casix    时间: 2003-4-4 18:01
标题: 光胶的问题。。。。。
leehunter先生,
你对真零级的波片应该比较熟悉,望多多指教
作者: leehunter    时间: 2003-4-4 21:14
标题: 光胶的问题。。。。。
光胶在下盘的时候也会出现变形,只是个比较难解决的问题,一般有经验的老师傅在抛光的时候会知道该怎么抛下盘后变形量能减为最小,你即使采用双面抛也会产生变形的,而且双面抛精度不高,他一般用于大量抛光的情况下,精度最高的是手抛,一般高精度的晶体抛光都采用手抛。
作者: leehunter    时间: 2003-4-4 21:16
标题: 光胶的问题。。。。。
to casix
我谈不上精通,你是在华科吗?我只知道华科被JDSU买了,不知道现在情况如何,以前华科做的东西还可以吧。
作者: casix    时间: 2003-4-4 23:40
标题: 光胶的问题。。。。。
唉,以前就别提了,现在一般般
作者: lzk    时间: 2003-4-4 23:46
标题: 光胶的问题。。。。。
楼上的是华科的哪一位啊。图片上的mm还不错嘛。如果还在华科的话我有事情找你帮忙。
作者: casix    时间: 2003-4-4 23:53
标题: 光胶的问题。。。。。
[这个贴子最后由casix在 2003/04/04 03:57pm 第 1 次编辑]

不好意思,台兄咋是个乌龟头像
作者: casix    时间: 2003-4-5 00:22
标题: 光胶的问题。。。。。
已经分居了,孤家寡人
作者: xyqy    时间: 2003-4-5 22:04
标题: 光胶的问题。。。。。
前两天刚刚去过华科。
目前主要的重点是放在镀膜方面吧?
光通讯方面主要放在深圳。

光胶的晶片研磨之后的变形是很正常的,主要原因还是研磨加工中产生的应力应变。想办法消除应力就可以了。
作者: wjf990    时间: 2003-4-6 06:15
标题: 光胶的问题。。。。。
光胶时非胶合面光圈变形的原因主要是:(1)零件大而薄,克服办法——严格控制光胶面的光圈,一般要求光圈数小于1,局部误差小于0.2,表面疵病不低于B/1x0.025级;(2)光胶面光圈太低,光胶时用力过大,办法——光胶时用力要均匀
作者: 萤火虫    时间: 2003-4-9 22:14
标题: 光胶的问题。。。。。
由于镜片薄,一面磨砂后,亮面变毛面,对另一面原有“拉”力变强,导致原有面光圈变形。
作者: 红星    时间: 2003-4-10 01:33
标题: 光胶的问题。。。。。
可能是抛光时没控制好面形特别是第一面及光胶可能加工精度未达到
作者: xvchuan    时间: 2003-4-10 06:41
标题: 光胶的问题。。。。。
抛光层和细磨的应力是不一样的
也许可以用氢氟酸腐蚀一下以消除应力
作者: casix    时间: 2003-4-10 16:48
标题: 光胶的问题。。。。。
具体一点?
作者: 红星    时间: 2003-4-10 18:13
标题: 光胶的问题。。。。。
我也是新手请多指教

作者: weijiatao006    时间: 2007-10-12 21:19
bu hao zuo
作者: 卧龙小子    时间: 2011-7-12 20:28
casix 发表于 2003-4-4 23:40
唉,以前就别提了,现在一般般

现在更是一般般般
作者: 小成    时间: 2011-7-15 22:21
需求的片子就要单面抛光的
?请问你单面的你是怎么光胶的??
作者: 阿明    时间: 2011-7-17 09:52
可以讲得具体一些,什么方式的光胶,光胶后又做什么处理!是哪一面变形!
作者: CAO-YONG    时间: 2011-9-9 21:55

作者: 纳米先生    时间: 2013-3-1 10:05
卧龙小子 发表于 2011-7-12 20:28
现在更是一般般般

不会吧   现在一般般般了     
作者: yangshaojun    时间: 2013-3-22 15:22
你下盘是采用什么方法?会不会是下盘时的应力引起的?




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