光电工程师社区

标题: 请教关于膜料H4的问题 [打印本页]

作者: jionboy 时间: 2011-4-21 19:53
标题: 请教关于膜料H4的问题
如题，小弟想了解下关于膜料H4的一些相关参数，如折射率，蒸发特性，应用范围等等。

作者: liguang 时间: 2011-4-21 20:59

作者: mxbplayboy 时间: 2011-4-21 21:35
学习中

作者: yong0009 时间: 2011-4-22 10:04
顶

作者: jionboy 时间: 2011-4-22 17:53
大侠们，有知道是说说，别太吝啬啦

作者: xiao2011 时间: 2011-6-3 18:40





  H4膜料的特性
　　

一、H4膜料的特性

成分钛镧混合物
外观 1-4mm的黑色颗粒
密度 5.9g/cm3
熔化温度 1800℃
沉积温度 2200-2300℃
沉积源电子束
坩埚铜或钼
氧气压力 0.8-2×10-4
沉积速率 0.2-0.8 nm/秒
基片温度大约30-300 ℃

二、H4膜层的特性

基片温度大约30℃ 300℃
500nm时的折射率 1.99 2.12
400 nm时的吸收 <2×10-4
吸收边缘 300nm
*吸收边缘是指在膜厚为270nm的膜层上,透光率为80%的波长。

三、折射率的散布

基片温度散布公式
大约30 ℃ n=1.887+25410/波长2
100 ℃ n=1.982+29820/波长2
300 ℃ n=2.009+28880/波长2

【返回】　　

版权所有：深圳市金域贸易有限公司
技术监制：深圳市金域贸易有限公司

作者: xiao2011 时间: 2011-6-3 18:41
够详细没有

作者: a99533126 时间: 2011-6-23 11:32
学习中

作者: jionboy 时间: 2011-7-16 17:39
非常感谢

作者: xiao2011 时间: 2011-7-19 21:20
H4膜料的特性
　　

一、H4膜料的特性

成分钛镧混合物
外观 1-4mm的黑色颗粒
密度 5.9g/cm3
熔化温度 1800℃
沉积温度 2200-2300℃
沉积源电子束
坩埚铜或钼
氧气压力 0.8-2×10-4
沉积速率 0.2-0.8 nm/秒
基片温度大约30-300 ℃

二、H4膜层的特性

基片温度大约30℃ 300℃
500nm时的折射率 1.99 2.12
400 nm时的吸收 <2×10-4
吸收边缘 300nm
*吸收边缘是指在膜厚为270nm的膜层上,透光率为80%的波长。

三、折射率的散布

基片温度散布公式
大约30 ℃ n=1.887+25410/波长2
100 ℃ n=1.982+29820/波长2
300 ℃ n=2.009+28880/波长2

作者: meilirensheng 时间: 2011-7-19 22:29

作者: 吥哙放弃、、 时间: 2011-8-2 18:49

作者: 木口 时间: 2011-8-5 16:17

蛮好的东西！

作者: 496316388 时间: 2011-8-18 13:18
学习中

作者: 革命小酒 时间: 2011-10-3 00:15
很好

作者: wangzhengkm 时间: 2011-10-5 23:28
very good

作者: wcb674399566 时间: 2011-10-22 20:39

作者: mfsw123 时间: 2011-10-24 03:19

作者: 缘睐汝痴 时间: 2011-11-15 10:06

作者: zhangmo 时间: 2011-11-25 14:28
学习中

作者: putinzhenkong 时间: 2011-11-25 15:01
苏州普京真空技术有限公司生产销售如下光学镀膜材料：
氟化物：氟化镁(MgF2)，BaF2（氟化钡）,CaF2（氟化钙）,SrF2(氟化锶），SeF3(氟化钪），YF3(Ca)(氟化钇）,YbF3(Ca)（氟化镱）,LaF3（氟化镧）,LiF（氟化锂）,NdF3（氟化钕）,Na3AlF6(冰晶石)，Na5Al3F13(锥冰晶石）,AlF3(氟化铝）, ZrF4（氟化锆),HfF4(氟化铪),InF3（氟化铟）,TmF3（氟化铥）,DyF3（氟化镝）,HoF3（氟化钬）,LuF3（氟化镥）,ErF3（氟化铒）PrF3(氟化镨），PbF2(氟化铅),CeF3(氟化铈），GdF3(氟化钆），SmF3(氟化钐），EuF3(氟化铕），氟化铽（TbF3)

氧化物：二氧化硅(SiO2),一氧化硅（SiO）,五氧化钽 (Ta2O5), 五氧化二铌（Nb2O5），三氧化二铝（Al2O3）,氧化铈(CeO2)，五氧化三钛（Ti3O5）, 二氧化钛（TiO2）, 一氧化钛(TiO)，三氧化二钛(Ti2O3)，氧化铪（HfO2），氧化锆（ZrO2），氧化镁（MgO），三氧二化铁(Fe2O3)
硫化物：硫化锌（ZnS）, 硒化锌（ZnSe）
混合物：锆钛混合物，锆钽混合物，钛钽混合物，氧化铟锡（ITO），H4替代品。
我公司镇江工厂从事精密光学镀膜材料生产近十年，有近十五台真空烧结炉，2台真空镀膜机做产品的检测，还通过第三方检测（SGS,CTI）,质量有保证，价格低廉。给客户最好性价比的产品。目前比较典型的客户有：舜宇光学，嘉光，水晶光电，北方光电，上海光联，普立华等。
好消息：我公司最近新研发的低气Ti3O5(五氧化三钛),放气量低，不喷溅，成膜后光学表面光洁度可做到10/20，质量与日本的OPTRON的OS-50相当，价格上却便宜很多，性价比特别高。适合做高端的红外截止滤光片（IR-CUT）、高反膜等。
联系人：董先生手机：15950079695 电邮：dongxl@chinaputin.cn
地址：苏州高新区金狮大厦11楼

作者: 272813953 时间: 2011-11-26 20:44

作者: wdydede 时间: 2012-9-2 15:42

作者: LOUYC 时间: 2013-7-23 14:27

作者: xiao2011 时间: 2013-7-25 20:21