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标题: 二氧化硅的蚀刻 [打印本页]

作者: hahaha 时间: 2003-11-28 18:20
标题: 二氧化硅的蚀刻
想得到不同厚度的二氧化硅，据说用氢氟酸同二氧化硅反应不同时间就可得到，可是我不知道具体的反应条件、浓度等等，请各位指点，谢谢：）

作者: mykosovo 时间: 2003-11-28 20:18
标题: 二氧化硅的蚀刻
什么反应条件，什么浓度？

作者: hahaha 时间: 2003-11-29 01:08
标题: 二氧化硅的蚀刻
在什么条件下，氢氟酸同二氧化硅反映，氢氟酸的浓度多大反映多长时间，能得到不同厚度的二氧化硅？

作者: 李伟华 时间: 2003-11-29 04:57
标题: 二氧化硅的蚀刻
用石英水晶试试，水晶主要成份也是二氧化硅。利用压电效应，通过测试水晶基板的频率，就可以控制其厚度。精度很高。水晶放在氢氟酸中在常温下就会反应。最好用氟化氢胺，配成饱和溶液。比较安全。氢氟酸太厉害。但我不知你做什么用的？
光靠化学反应去得到不同厚度会很慢。最好还是通过研磨，抛光比较快。至少水晶材料是这样的。

作者: hahaha 时间: 2003-12-5 00:29
标题: 二氧化硅的蚀刻
我现在有一片硅片，上面镀有二氧化硅膜层，厚度约50nm，现在我想将二氧化硅蚀刻成不同的厚度，即做成厚度的阶梯。有什么好方法可以实现这一目标，同时，还能保证膜层厚度的均匀性？？？

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