光电工程师社区

标题: 关于蒸发最初阶段速率过大的影响 [打印本页]

作者: xiaojiang007 时间: 2011-4-23 16:25
标题: 关于蒸发最初阶段速率过大的影响
一直有个困惑我的是电子枪蒸发，如果在开挡板的时候，蒸发速率过大，走值很快对于成膜以及性能有什么影响呢还有如果太慢的话又有什么影响呢新手求解

作者: jionboy 时间: 2011-4-23 19:25
慢比快好

作者: 终南子 时间: 2011-4-24 18:44
要看什么材料，一些材料快一点好，一些材料慢一点好，蒸发快慢对膜层的吸收、填充密度、折射率、内应力等都有影响

作者: 宇宙深处 时间: 2011-4-25 17:39
一般来说快的沉积速率快，分子动能大，结构致密。折射率高。但有些材料易分解；沉积速率慢氧化充分，

作者: ghtzna 时间: 2011-4-29 17:26
预融的问题啦

作者: ghtzna 时间: 2011-4-29 17:26
用的什么药？

作者: xiaojiang007 时间: 2011-5-4 21:00
zrti sio2 给说说具体情况

作者: keyanfang 时间: 2011-5-11 00:14
沉积速率太高，膜层的内应力增大，可能会导致膜层破裂

作者: wlinliu 时间: 2011-5-11 02:11
标题: null
速率的改变也会影响材料折射率的

作者: ysc212 时间: 2011-5-11 21:55
同意3、4楼的观点

作者: ranguangpu 时间: 2011-6-27 08:55
致密镀更好是不是认为不容易脱膜，膜强度也会更好呢？

作者: starofage 时间: 2011-6-27 09:51
不同材料当然要求不一样

作者: fasces9 时间: 2011-7-30 16:21
这个得不同膜料靠不同的试验吧

作者: gxfdllg 时间: 2012-3-25 17:01
速率太高，会带来蒸发不均匀！！！

作者: 心静 时间: 2012-4-10 11:25
学习了

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