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标题: 再谈基片清洗 [打印本页]

作者: coating 时间: 2003-4-22 07:22
标题: 再谈基片清洗
在基片清洗中，基片是直接放在超声清洗机容器内还是另方一个容器中，然后放进去，谢谢

作者: ic5 时间: 2003-4-22 16:18
标题: 再谈基片清洗
这是个矛盾的结果，直接放在清洗槽内效果更好，但容易损伤玻璃，放在别的容器内又会减小超声波的效果，我建议放在另一个容器内，但保证效果的情况下！

作者: zwl 时间: 2003-4-23 00:25
标题: 再谈基片清洗
直接放入超声波好一些，不用担心损伤玻璃，因为超声波大小可调。我认识的厂都是这样清洗！！！！

作者: xyqy 时间: 2003-4-23 22:36
标题: 再谈基片清洗
在使用超声清洗零件时，可以使用网笼。但是由于网眼要引起超声衰减，所以必须选择较合适的网眼大小来适配超声清洗。

作者: ic5 时间: 2003-4-23 23:13
标题: 再谈基片清洗
直接放入超声波中玻璃容易损伤，不是因为受到超声波的影响，而是受到清洗槽或产品之间的相互损伤。你说呢？

作者: zwl 时间: 2003-4-24 01:08
标题: 再谈基片清洗
直接放入超声波中玻璃镜片用夹具夹好（固定）绝对不会损伤玻璃！！！！！！

作者: xyqy 时间: 2003-4-24 18:30
标题: 再谈基片清洗
应该说，使用超声清洗的主要参数就是功率，或更确切的说，是清洗池内被清洗件表面处的功密度大小，它直接影响到超声声强大小。声强大小又是直接影响空化效果的因素，所以在选择超声清洗时应该特别注意功率的大小。
超声波清洗效果不一定完全与功率×清洗时间成正比。可以想象，有时用小功率的清洗机，花费很长时间也不会有特别明显的效果。如果功率达到一定数值，则可以很快将污垢去除。但如果功率过大，空化强度将大大增加，清洗效果是提高了，但会使较精密的零件产生蚀点，得不偿失，而且清洗缸底部振动处空化严重，很容易受到水点腐蚀，减少超声波清洗机的寿命。太高的声强会造成空化气泡过多，形成声波屏障，使声波不容易传播到整个液体空间。在远离声源的地方，声波强度可能会减弱很快，不能形成有效的清洗。

作者: zwl 时间: 2003-4-24 19:33
标题: 再谈基片清洗
多谢指教！！！！！！！！

作者: lavajydm 时间: 2003-5-10 07:22
标题: 再谈基片清洗
我想清洗还有其他的方法啊！
象用溶剂啊！！化学反应啊！！等等啊

作者: lootooer 时间: 2003-9-20 01:56
标题: 再谈基片清洗
1，其实超声波在光学清洗时，是选择频率比较高的发生器来清洗的，一般是40KHz至68KHz的超声波来清洗，如果选择频率低的超声波（比如28KHz)就很容易造成光学件表面的刮花；
2，因为超声波只是物理方面的清洗，所以一般都要配合一些化学溶剂来清洗，效果就会更好；
3，清洗光学镜片时最好用专用的清洗架，清洗架一般用不锈钢制作，和镜片接触的地方，采用尼龙材料，防止蹦边及碰花；
4，在清洗完毕，在脱水及干燥方面，现在一般采用的工艺都是：纯水--IPA脱水--CFC-113干燥，当然因为环保的关系，最好改用IPA或AK225来干燥，但效果比CFC-113要差点；
本人先讲那么多，不好请包涵！当然我后面会做一个专题的，请大家留意！
有问题和我联系：poopooer@163.com

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