光电工程师社区

标题: 光控中比较片的位置 [打印本页]

作者: ycxmy 时间: 2003-4-23 04:46
标题: 光控中比较片的位置
在利用上反射光控镀膜时比较片的位置对膜厚仪的走值有多大关系。

作者: hgw2001 时间: 2003-4-23 05:29
标题: 光控中比较片的位置
你的是什么光控。是国内的那种极值法。还是国外莱宝的那种光控。如果是后者的话。比较片是根据膜系设计出来的光控曲线得出的。前者的话应没有什么差别。除你的村料有变化

作者: ycxmy 时间: 2003-4-23 15:11
标题: 光控中比较片的位置
是南光上反射光控，在两台机器上同一型号的光控但是比较片离工件架的位置有所不同，镀同种膜膜厚仪的走势都不一样。

作者: whpe2000 时间: 2003-4-23 17:33
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作者: 洪峰 时间: 2003-4-23 17:36
标题: 光控中比较片的位置
这跟信号大小有关系吧（影响因素有倍增管高压大小、光源电流大小、光路、膜厚仪调试），还有就是每一台机器所做出来的折射率不一样所以走值就不一样了。

作者: hgw2001 时间: 2003-4-23 18:58
标题: 光控中比较片的位置
两台机子当然不一样了。两台机子的工件影响系数不一样。走值当然不一样

作者: Jesus 时间: 2003-4-24 01:29
标题: 光控中比较片的位置
同志你所说的走势不一样是指什么？
难道说镀同种膜，光控的上升和下降的趋势都不一样吗？
我觉得应该不会出现这种现象吧？

作者: ycxmy 时间: 2003-4-24 02:44
标题: 光控中比较片的位置
个别膜料的走势不一样（上升和下降）

作者: ababab 时间: 2003-4-24 03:02
标题: 光控中比较片的位置
走势应该是一样的（对同种膜料），走值可能会不太相同吧。

作者: Jesus 时间: 2003-4-24 16:54
标题: 光控中比较片的位置
我觉得也应该是啊，走势（上升、下降）只与你所镀的膜层的折射率和基底的折射率的高低有关，所以我想应该每种膜料的走势应该是一致的。但最后的走值与你该层膜的折射率有关，所以如果膜层折射率控制不稳定的话，那最后的走值肯定会有所差别的。希望能对你有所帮助。

作者: ofeiying 时间: 2003-4-25 01:43
标题: 光控中比较片的位置
只要是基底(监控片)折射率一样,那么光控的走势(上升/下降)也应该是相同的!

作者: hgw2001 时间: 2003-4-25 04:31
标题: 光控中比较片的位置
nd=NH或NL当折射率发生变化时。如果是光学厚度是固定的值的话那么物理厚度就会发生变化。如果光学厚度不是定值而折射率是定值。那么有可能或多于或少于NH。这样你的光控走值就变化了。这就是国内光控的缺点。不能用来镀多层膜。而国外，象莱宝的光控就解决了这个问题。它让光学厚度是一个定值而让折射率和物理厚度同时是变量。可以用来镀多层膜。国内的镀膜机很可怜。没有那家单位能做这种光控。

作者: jet 时间: 2003-4-25 21:08
标题: 光控中比较片的位置
用南光或北仪的膜控仪之前，得精确计算出膜系结构走值，记录在案。实际镀膜时，你的大脑就取代了莱宝的CPU，根据预算好的格值来控制膜厚。只是CPU不同罢了！！

作者: 小西 时间: 2003-4-26 01:00
标题: 光控中比较片的位置
有没有人遇到过走势异常的情况?
比如K9做监控片,上面镀ZrO2,走势应该上走,
实际却向下走了(个别时候)
搞不懂!?

作者: ababab 时间: 2003-4-26 22:15
标题: 光控中比较片的位置
都走单层没有，但如果是类似于2H2L2H2L或2L2H2L2H这样的膜系（用同一比较片）就会出现你所说的情况了。

作者: nation 时间: 2008-7-7 21:54
遇到的情况真是多啊，

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