光电工程师社区

标题: 磁控溅射 [打印本页]

作者: xyqy 时间: 2003-6-9 17:19
标题: 磁控溅射
有没有高手可以讲一下磁控溅射的工艺和要点啊？

作者: ic5 时间: 2003-6-9 22:10
标题: 磁控溅射
好！我也很想了解！能说详细点更好！

作者: 冷风残阳 时间: 2003-6-11 17:50
标题: 磁控溅射
好好我也拭目以待

作者: nation 时间: 2008-7-8 21:36
和电子枪一个道理。
只是蒸发源不同而己
我想可以这样理解。

作者: luopr 时间: 2008-9-8 14:06
磁控溅射简单的理解就是让靶和充入的气体各带不同电荷，在相吸的情况下把膜了撞击出来．在充氧的情况下形成氧化物再沉积到基片上的过程．
有没有了解过老毛子的一种带弯靶的溅射机，弯度是９０度．弯靶中有一种装置－－龙骨，可以过滤溅射出来的膜料分子，可以做出更致密的膜层．哈哈　和平面靶不同吧？

作者: yiheng 时间: 2009-1-18 15:06
楼上说的是磁过虑多弧源吧?90度的磁场跑道将离子引出,把大液滴挡掉,但是效率要降低很多.

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