光电工程师社区
标题:
镀膜过程中的水汽问题
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作者:
hakuto
时间:
2003-7-22 17:49
标题:
镀膜过程中的水汽问题
在镀膜过程中的水汽问题是一个很严重的问题。这种水汽通常是从真空室壁、用具、镀层衬底上,以及前面各工序的余存排出来的。
在系统中附加一个涡轮分子泵或是附加一个液氦泵可以在一定程度上解决排除水汽问题,但是成本很高,而且因为设备体积加大,因此应用受到限制。
低温抽吸是解决水汽问题的好方法。在真空室内安装一种制冷表面,通过控制这种制冷表面的温度,可以实现高速抽吸气体。
过去,制冷表面是由铜或是不锈钢薄壁管制成的,液氮在薄壁管内流动,降低管的温度,实现低温抽吸。
但是,液氮使用不安全,成本高,而且未必能随时可得。另外,液氮会使制冷表面温度降至低于有效抽吸水汽所需要的温度。这导致抽吸其它气体,特别是二氧化碳。液氮入口压力变化造成Meissner盘管内温度不稳定,这也就造成对二氧化碳的抽吸不稳定。
POLYCOLD低温冷冻器可有效的抽吸真空室内的水汽。
作者:
hgw2001
时间:
2003-7-22 18:15
标题:
镀膜过程中的水汽问题
一般像莱宝的机子它都有在真空室壁能有热水。以便能让附在真空室壁的水气不留在真空室壁上能被抽走。
作者:
hakuto
时间:
2003-7-28 19:03
标题:
镀膜过程中的水汽问题
对莱宝的镀膜机来说,POLYCOLD是标准的配置。
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