光电工程师社区

标题: 紧急请教:ITO [打印本页]

作者: feiyang    时间: 2003-7-24 00:37
标题: 紧急请教:ITO
兄弟在镀制ITO膜时发现即使原来均匀性比较好的位置,镀制出来的导电膜电阻偏差也很大,膜层颜色也有比较大的差异,工艺重复性不好,我有要求为23+-3的电阻要求,计算和实验出了合适厚度最终镀制后发现电阻出现17-27之间的差值.兄弟们有镀制经验的给我支支着,多谢了,不能按期完成,我小命玩完也!
作者: feiyang    时间: 2003-7-24 01:02
标题: 紧急请教:ITO
再有就是这种薄膜能不能祛除(化学方法)?欢迎大家发言,也请大家告诉我去什么地方能够看到相关的东西
作者: likeoe    时间: 2003-7-24 05:59
标题: 紧急请教:ITO
HCl可以除去ITO
作者: coatingli    时间: 2003-7-24 13:34
标题: 紧急请教:ITO
你如果要几片,我可以给你寄去,我这边有的是
作者: feiyang    时间: 2003-7-25 07:18
标题: 紧急请教:ITO
寄到不必,我正在试制,就是有些小问题,上面说的,没有解决,还有就是理论计算方面,怎么去计算厚度,宽度,长度,与电极长度的关系
作者: coatingli    时间: 2003-7-26 11:57
标题: 紧急请教:ITO
其实设备是最主要的,ITO一般都用磁控溅射成膜,均匀比较好控制,且膜层性能也比较稳定优良。一般基片温度控制在350度左右,面阻在23+-3,膜厚大约在700A左右。还有你的SNO2和IN2O3的配比也必须适合
作者: likeoe    时间: 2003-7-27 06:34
标题: 紧急请教:ITO
磁控溅射还有那么高温度呀,好象不用,我们用热蒸发才要那么高,磁控溅射我想只要常温就可以了,我没磁控溅射做ITO的经验。
作者: coatingli    时间: 2003-7-27 06:38
标题: 紧急请教:ITO
磁控溅射是可以低温镀膜,但是针对不同材料,不同膜层,温度当然也不会相同,而且ITO膜层性能要求比较高,当然工艺上也必须调整
作者: chugqchugq    时间: 2003-7-28 06:17
标题: 紧急请教:ITO
锌粉加盐酸可以去除ITO膜
作者: likeoe    时间: 2003-7-28 08:29
标题: 紧急请教:ITO
加锌粉有什么讲究吗?我平时是不用加的,直接用盐酸泡的。
作者: clearwaterqq    时间: 2003-7-28 09:49
标题: 紧急请教:ITO
为什么去ITO,通用的方法是盐酸:硝酸:水=4:2:1?
很多标准的工业流程都是这样/
ITO透光率与厚度,面阻关系如图。

作者: feiyang    时间: 2003-7-29 20:51
标题: 紧急请教:ITO
我用的是热蒸发镀制,温度350度,没有磁溅射的设备,我最近试了几次都是均匀性不好,祛除我用的是盐酸,关于计算方面,谁有高见啊?我没有找到合适的方法去预测计算要镀制的厚度。
作者: feiyang    时间: 2003-7-29 20:52
标题: 紧急请教:ITO
clearwaterqq ,你对这方面做过很多工作吧?谁能给我提供一些这些方面的书籍啊?
作者: ic5    时间: 2003-7-29 22:24
标题: 紧急请教:ITO
磁控溅射所得到的膜层表面质量怎么样?
作者: coatingli    时间: 2003-8-2 01:43
标题: 紧急请教:ITO
一般要求颗粒在20个微米以下,基片不允许有超过2mm划伤,以及崩边等,针对不同产品要求也有区别,做STN产品要求比TN的高的多,主要是由于STN刻线比较细密。
作者: feiyang    时间: 2003-8-9 07:14
标题: 紧急请教:ITO
我的ITO镀制已在两周前得以实现,谢谢诸位了
作者: heyanch    时间: 2003-12-21 00:00
标题: 紧急请教:ITO
下面引用由likeoe2003/07/26 10:34pm 发表的内容:
磁控溅射还有那么高温度呀,好象不用,我们用热蒸发才要那么高,磁控溅射我想只要常温就可以了,我没磁控溅射做ITO的经验。
200~300读还是要的

作者: 流浪的狗    时间: 2003-12-22 00:51
标题: 紧急请教:ITO
clearwaterqq ,你好,你有4.5欧姆的ITO的参数吗,
我急用,谢谢





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