光电工程师社区

标题: 鍍金屬膜 [打印本页]

作者: kuan 时间: 2003-7-28 16:24
标题: 鍍金屬膜
在半導體產業經常鍍金屬膜
但聽說金屬膜的真空條件必須在-6~-10torr
why??

作者: Jesus 时间: 2003-7-28 20:19
标题: 鍍金屬膜
保证在较高真空度下镀膜，防止金属氧化

作者: Portia 时间: 2003-7-29 00:24
标题: 鍍金屬膜
也可以不用那么高的真空度，但需要通入气体保护

作者: kuan 时间: 2003-7-29 17:01
标题: 鍍金屬膜
通入氣體保護??
什麼意思阿?

作者: Portia 时间: 2003-7-29 19:07
标题: 鍍金屬膜
抱歉，是我搞错了！
我见到的半导体方面镀金属膜或激光器件镀AR膜用的镀膜机采用的高真空泵都是低温泵，真空度确实比较高，都在10－7 Torr左右。

有时镀膜过程中会向真空室内通入惰性气体以保护膜层，减少氧化。

作者: ic5 时间: 2003-7-29 22:31
标题: 鍍金屬膜
你们保护气一般使用哪种气体？（N2、Ar还是其他）

作者: feiyang 时间: 2003-8-16 04:16
标题: 鍍金屬膜
后者多一点，金属膜高温易氧化，真空度是要高一点的好

作者: xyqy 时间: 2003-8-17 16:50
标题: 鍍金屬膜

下面引用由ic5在 2003/07/29 02:31pm 发表的内容：
你们保护气一般使用哪种气体？（N2、Ar还是其他）

我用的是Ar。当真空度在10-3左右，打开Ar阀，调节节流阀，使工作室内真空为0.1×10-1，再开始镀膜。
我用的是磁控溅射。

作者: feiyang 时间: 2003-8-20 04:19
标题: 鍍金屬膜
有没有新的镀制金属膜的工艺？请告知？

作者: lavajydm 时间: 2003-8-21 21:49
标题: 鍍金屬膜
他怎么用的是繁体的文字！用气体保护！高真空！要不去太空！！·！开玩笑的！我看大家需要轻松一下！

作者: feiyang 时间: 2003-8-22 06:07
标题: 鍍金屬膜
是要用气体保护的，不然真会氧化的！

作者: ababab 时间: 2003-8-23 03:22
标题: 鍍金屬膜
好像有人用电子枪镀金属膜，其用什么坩埚，工艺如何呀？

作者: xieyoujie 时间: 2010-6-7 01:10
电子枪不好镀容易有溅点，用阻蒸。

作者: 526951749 时间: 2010-6-8 09:41
电子枪蒸镀，用铜坩埚应该就没问题，通气体保护也要保持高真空，真空度低了膜质量肯定不行。至于为什么要高真空，建议你去看看书，三眼两语理解不透。磁控溅射通Ar气主要作用不是用来做保护，是用来产生等离子体的

作者: z1206l 时间: 2010-6-29 19:32
用途不一样，真空度也不一样啊

作者: sunmang 时间: 2010-10-22 09:00
防止金属氧化

作者: xiazg 时间: 2010-10-22 09:33
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