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标题: Tio2與Ti3o5的差別? [打印本页]

作者: kuan 时间: 2003-8-1 00:46
标题: Tio2與Ti3o5的差別?
如題

作者: Jesus 时间: 2003-8-1 01:03
标题: Tio2與Ti3o5的差別?
实际上无论做哪种Ti的氧化物膜，最后在基片上生成的基本都是TiO2.
做Ti的氧化物的膜就是要求氧压要高，促进Ti与O2的充分反应，避免吸收.

作者: Jesus 时间: 2003-8-1 20:19
标题: Tio2與Ti3o5的差別?
在煉藥時的行為不太一樣
tio2的廢氣較多
why??
不太懂你的意思，你的意思是说TiO2和Ti3O5在蒸发的时候的放气大不一样是吧？
我觉得那主要和材料的烧结和预熔工艺有关了。

作者: coatingli 时间: 2003-8-2 01:46
标题: Tio2與Ti3o5的差別?
TiO2膜料吸收要小点吧

作者: jeh 时间: 2003-8-5 21:16
标题: Tio2與Ti3o5的差別?
针对TIO2，怎样蒸发（包括预熔）才能做到吸收最小？真空室内温度、真空度、充氧量、蒸发速率？离子源会影响吗？

作者: Jesus 时间: 2003-8-5 22:48
标题: Tio2與Ti3o5的差別?
Ti氧化物膜的吸收强弱取决于其蒸镀过程中氧化的程度,如果与氧反应充分则吸收小,如果反应不充分,则光吸收大.所以吸收程度的强弱主要取决于真空室里氧压的多少.
当然你所说的温度,蒸发速率等也有影响.至于具体的工艺,因为设备的不同,要自己实验摸索,不过一般蒸发Ti,充氧后的气压1.0 -2Pa------3.0 -2Pa之间比较合适,另外蒸发速率适当放慢些.

作者: nickzheng 时间: 2003-12-29 04:01
标题: Tio2與Ti3o5的差別?
应该说在成膜的膜层中含有的成分有TiO2,TiO,Ti2O3,Ti3O5,Ti等等。如果TiO,Ti2O3,Ti3O5,Ti含量比较高的话膜层的吸收就比较大。所以镀制的时候一定要冲氧。有报道说Ti2O3在冲氧热镀时效果非常好，吸收很小。

作者: flyingheart 时间: 2003-12-29 07:43
标题: Tio2與Ti3o5的差別?
请教充氧后的气压1.0 -2Pa------3.0 -2Pa之间？？？
是1.0* 10-2吗？？

作者: Jesus 时间: 2003-12-30 00:53
标题: Tio2與Ti3o5的差別?
flyingheart,是的
当然各自的工艺不同，所以我也不敢肯定ok
但我觉得这个气压比较合适

作者: shanyu 时间: 2003-12-30 23:10
标题: Tio2與Ti3o5的差別?
1.0E-2 Pa的条件并不是说固定，不同的设备，不同的条件，要经过试验才能得出的。

作者: lavajydm 时间: 2004-1-11 04:24
标题: Tio2與Ti3o5的差別?
有详细的资料吗？我想看看啊！

作者: jeh 时间: 2004-3-25 20:03
北京巨玻的TIO2比TI3O5蒸发时需要的束流比较大，放气也比较多。

作者: Jenny17 时间: 2008-7-18 15:59
标题: 供应 Ti3O5 颗粒
高展金属材料有限公司主要生产蒸镀材料等产品，包括Ti,Ta 等系列，若生产需求，可供样测试，有意向，请联系：Jenny.yin@gemch.com，欢迎咨询！

作者: liulangzhe 时间: 2008-7-20 08:02

原帖由 flyingheart 于 2003-12-29 07:43 发表
请教充氧后的气压1.0 -2Pa------3.0 -2Pa之间？？？
是1.0* 10-2吗？？

应该是的，不然的话真空度就太低拉

作者: xiao2000 时间: 2008-8-3 10:42

原帖由 jeh 于 2004-3-25 20:03 发表
北京巨玻的TIO2比TI3O5蒸发时需要的束流比较大，放气也比较多。

材料熔点差别很大

作者: nation 时间: 2008-8-3 17:00
差异比较大的，特别在镀多层时，如果要相关的资料，可以发信到我的邮箱，
有时间我会传过去的。

作者: wangzhengkm 时间: 2011-10-7 00:58
长知识了

作者: zhangmo 时间: 2011-11-25 15:31
具体怎么样实验才能确定氧量

作者: putinzhenkong 时间: 2011-11-25 16:57
苏州普京真空技术有限公司镇江工厂引进德国熔融提纯技术生产销售紫黑色TI3O5晶体，优点是：放气量非常低，预熔时间短，光学表面光洁度最高可达10/20。
化学检测指标如下：
项目标准典型测试
Cu ＜10ppm    ＜0.0001%
Co ＜10ppm    ＜0.0001%
V ＜5ppm    ＜0.0002%
Fe ＜50ppm  ＜0.0002%
Cr ＜50ppm  ＜0.001%
Ti3O5晶体(五氧化三钛)经客户反复测试及批量使用后确认质量非常接近日本的质量，价格却便宜很多，性价比非常高。欢迎客户来电咨询。
联系人：董先生  手机：15950079695 电邮：dongxl@chinaputin.cn
地址：苏州高新区金狮大厦11楼AB座

作者: putinzhenkong 时间: 2011-11-25 16:58
苏州普京真空技术有限公司生产销售如下光学镀膜材料：
氟化物：氟化镁(MgF2)，BaF2（氟化钡）,CaF2（氟化钙）,SrF2(氟化锶），SeF3(氟化钪），YF3(Ca)(氟化钇）,YbF3(Ca)（氟化镱）,LaF3（氟化镧）,LiF（氟化锂）,NdF3（氟化钕）,Na3AlF6(冰晶石)，Na5Al3F13(锥冰晶石）,AlF3(氟化铝）, ZrF4（氟化锆),HfF4(氟化铪),InF3（氟化铟）,TmF3（氟化铥）,DyF3（氟化镝）,HoF3（氟化钬）,LuF3（氟化镥）,ErF3（氟化铒）PrF3(氟化镨），PbF2(氟化铅),CeF3(氟化铈），GdF3(氟化钆），SmF3(氟化钐），EuF3(氟化铕），氟化铽（TbF3)

氧化物：二氧化硅(SiO2),一氧化硅（SiO）,五氧化钽 (Ta2O5), 五氧化二铌（Nb2O5），三氧化二铝（Al2O3）,氧化铈(CeO2)，五氧化三钛（Ti3O5）, 二氧化钛（TiO2）, 一氧化钛(TiO)，三氧化二钛(Ti2O3)，氧化铪（HfO2），氧化锆（ZrO2），氧化镁（MgO），三氧二化铁(Fe2O3)
硫化物：硫化锌（ZnS）, 硒化锌（ZnSe）
混合物：锆钛混合物，锆钽混合物，钛钽混合物，氧化铟锡（ITO），H4替代品。
我公司镇江工厂从事精密光学镀膜材料生产近十年，有近十五台真空烧结炉，2台真空镀膜机做产品的检测，还通过第三方检测（SGS,CTI）,质量有保证，价格低廉。给客户最好性价比的产品。目前比较典型的客户有：舜宇光学，嘉光，水晶光电，北方光电，上海光联，普立华等。
好消息：我公司最近新研发的低气Ti3O5(五氧化三钛)颜色呈紫黑色，,放气量低，不喷溅，成膜后光学表面光洁度可做到10/10，质量与日本的CANON OPTRON的OS-50相当，价格上却便宜很多，性价比特别高。适合做高端的红外截止滤光片（IR-CUT）、高反膜等。
联系人：董先生手机：15950079695 电邮：dongxl@chinaputin.cn
地址：苏州高新区金狮大厦11楼

作者: ipshjh2005 时间: 2011-11-28 22:21

作者: ipshjh2005 时间: 2011-11-28 22:45

作者: Haa 时间: 2011-11-29 17:12
预料时TIO2放气比TI3O5多，以至于电子枪打火严重。

作者: 272813953 时间: 2011-11-29 21:13
你可以易熔它才镀膜啊

作者: xiazg 时间: 2011-11-30 13:48
有需要晶振片的嘛买正品晶振片找老夏 15068338773 Q：1046118891

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