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标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题 [打印本页]

作者: michaelzhj 时间: 2004-2-17 05:01
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
各位大侠,我有一个问题求教:
由于市场上没有双面抛光的Si基片,所以只有在一面抛光的Si基片上镀制光学薄膜,但是我又想测试薄膜的透射率,单面抛光的Si片由于散射很严重,所以透射很小,肯定得不到薄膜的真实透射率.

我该采用什么办法获得薄膜的透射率.
谢谢您的指点,我很迷茫.我的电子邮件是:michaelluvzhj@hotmail.com

作者: michaelzhj 时间: 2004-2-17 06:09
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
我的问题这么难吗，大家都没有回音，我想你们啊

作者: ic5 时间: 2004-2-17 20:52
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
能否测试镀膜后的反射，从而看作理想的透射率，虽然这样不太真实，但对于高透过来说，测试其反射更直接！

作者: michaelzhj 时间: 2004-2-17 22:51
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
论坛斑竹给予我的建议，就是忽略了反射吧，颇有新意，决定一试！
如果好使，我通知你。

作者: ic5 时间: 2004-2-17 23:29
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
谢谢，等待你的好消息，如果还有什么问题，愿意交流！

作者: michaelzhj 时间: 2004-2-17 23:59
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
其实对于这个问题，我有一个更大的疑问：

如果仅仅依靠反射率来推测薄膜的透射率的话，我更可以直接依靠其试样总的透过率来推测啊，而不管这透射率到底有多高，甚至10％都行，这更能够显示出来薄膜透过率的规律。

你知道这反射率和透过率之和为1，这样得出的结论不恰恰矛盾了吗？

作者: wazxq 时间: 2004-2-18 00:11
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
我看到你说的单面抛光，又能测试透射，莫非另外一面也能透光了
这样的话，测试反射也是不准确的呀。
在SI上，是不是远红外波长啊。您的镀膜材料可能有吸收，以反射推透射意义不大

你不如在镀好的片子上，将另外一个面抛光一下，做个实验

作者: michaelzhj 时间: 2004-2-18 00:30
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
另一面没有抛光，但我想，这多多少少也能够反映薄膜透射率的规律吧，即使很低很低。
我所做的波长范围在8到11.5个微米
关键是薄薄的硅片，很脆，禁不住再次抛光（这可能也是市场上没有双面抛光的si片的原因吧），并且我镀的膜很薄，只有0.5个微，几乎在厚度上无济于事，这可怎么办？

作者: Jesus 时间: 2004-2-18 01:02
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
朋友，你可不可以考虑在其他折射率基底的陪片上镀同样的膜系，然后根据该陪片的测试曲线针对基底折射率进行曲线的拟合，从而判断膜的指标呢?

作者: michaelzhj 时间: 2004-2-18 01:30
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
不同的基片镀出的薄膜各种性能也肯定不一样的，您说的拟和我还不是太了解，能详细说一下吗，谢谢你了。我的主耶稣啊！呵呵

作者: michaelzhj 时间: 2004-2-18 01:43
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
您说的是陪片，很好的建议！但这样容易运用数学手段进行拟和吗？

作者: zhchqphchz 时间: 2004-2-18 02:01
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
我有一个拙见：可能的话，先测出未镀膜情况下的同厚度的硅基片的透过率情况，再在同样的情况下测出镀膜后的透过率，据此可得膜的透过率。这种方法忽略了光在硅基片与膜的界面处的可能的散射。在散射不太大的情况下，可能行。
这只是我的拙见，不知是否行得通。

作者: yh15430 时间: 2004-2-18 03:44
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
若有测量反射率装置不如测量反射率来的简洁，至于光吸收可用避免之。

作者: michaelzhj 时间: 2004-2-18 05:35
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
透射率不应该只是二者量的加和吧。

作者: jet 时间: 2004-2-18 17:00
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
SI片的透射范围为1-9um，而用它来作8-11.5um，得考虑晶片本身的吸收。在做模拟计算时，晶片和镀膜材料的折射率和消光系数都要考虑在内。你镀的是什么材料？若愿意提供更详细的数据，我可以邦你算一算。

作者: michaelzhj 时间: 2004-2-18 17:06
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
谢谢jet的大力支持，我深表感动。
我镀的是的AlN薄膜
所谓的模拟计算，具体指什么

作者: chugqchugq 时间: 2004-2-18 22:49
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
硅片在8-12um可以不抛光测，和抛光测透过没区别，原因是散射和波长的4次方分之一成正比，红外波长很长，散射极小。硅片在此波段吸收较大，且和波长有关，用透射法得不出折射率。建议用测反射的办法。

作者: michaelzhj 时间: 2004-2-18 23:34
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
这位长春的朋友，只有极微小异质体（异质体线度比入射光波长小很多）产生的散射，其散射强度才是与入射光的波长有关的，即散射强度与光波波长的四次方成反比，这就是瑞利散射定律。但这是Si片，应该说散射不是那么大吧，我还在继续考证。

作者: shrek 时间: 2004-2-19 00:02
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
略表拙见：
对于背面未抛光的Si片来说，散射损失可能较大，能否采用楼上所指点的差动方式来测量反射率，进而表征薄膜的光学特性呢？

作者: michaelzhj 时间: 2004-2-19 00:37
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
差动方式？如何差动

作者: michaelzhj 时间: 2004-2-20 00:23
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
大家帮帮我啊

作者: chugqchugq 时间: 2004-2-20 22:35
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
我在做Ge和ZnSe片增透时，为节省时间，有时在未抛光的基片做实验，测量时和抛光的相差很小。

作者: michaelzhj 时间: 2004-2-22 22:20
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
我找到了一家双面抛光的Si片生产商
021-57843676
找顾先生
信誉很好

作者: shrek 时间: 2004-2-24 18:30
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
差动，即先测量基底的反射率，再测量一下基底和薄膜总的反射率，利用这两者的差值来实现对基底的表征，这样也许可以略去背面没抛光的影响。
如还没找到更好的办法，可以试一下

作者: rmchen 时间: 2004-3-2 07:51
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
当心！平面的透过率准确，但球面镜的透过率很难测准的。

作者: eagle1 时间: 2004-3-4 22:34
标题: 关于测试薄膜光学常数的一个关键问题
我还是觉得版主测反射的方法比较行得通,如果不行,再想其他办法吧!

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