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标题: 二氧化硅的蚀刻 [打印本页]

作者: hahaha 时间: 2003-11-28 18:25
标题: 二氧化硅的蚀刻
想得到不同厚度的二氧化硅，据说用氢氟酸同二氧化硅反应不同时间就可得到，可是我不知道具体的反应条件、浓度等等，请各位指点，谢谢：）

作者: freel 时间: 2003-11-29 05:49
标题: 二氧化硅的蚀刻
氢氟酸：氟化铵＝1：30，试试，比例还可以在变变，自己试试吧。
不过用的时候要当心，氢氟酸对人体的伤害很大，弄到身上需要专门的医生才能处理，搞不好要命的。

作者: cdquartz 时间: 2003-11-30 07:33
标题: 二氧化硅的蚀刻
如果要得到均匀的蚀刻厚度（没有被HF-NH4F腐蚀）是较困难的，这与你选的二氧化硅材质有关，可提供相关信息，请联系13980600120

作者: whiterabbit 时间: 2003-12-21 04:47
标题: 二氧化硅的蚀刻
不知你说的二氧化硅是不是用CVD或其他镀膜方法获得的，如是，为何不通过控制生长条件如时间，速率来得到不同厚度了？如果是已经生长好的膜，可用湿法刻蚀或干法刻蚀。湿法比较简单，但要控制好氢氟酸的浓度，以免腐蚀速率太快，建议以1：100（HF:H2O)为参考进行调配。同时要特别注意安全，氢氟酸的酸性不强，但容易渗透皮肤腐蚀骨骼，轻者致残，重者有生命危险。记得以前上安全操作课时，老师一再强调氢氟酸。用干法腐蚀可以较好地控制厚度，但设备要求高，具体参数依所用气源及设备条件而定。

作者: lavajydm 时间: 2003-12-30 08:42
标题: 二氧化硅的蚀刻
你用的是干法腐蚀！

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