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标题: 厚膜的比例膜厚监控问题 [打印本页]

作者: coaterxf 时间: 2011-6-7 14:33
标题: 厚膜的比例膜厚监控问题
有没有高手做过厚膜的膜厚比例监控？
基板沉积100μ，但是石英头子上只沉积10μ。通过套筒或其他装置使得石英头子上沉积的膜少些，延长晶振片寿命。

作者: filmokay 时间: 2011-9-29 15:42
这是个好主意啊，第一次听说。省钱秘笈

作者: LILISRLHJ 时间: 2011-9-29 21:57
μm级别的你可以考虑用一下时间控制，好多晶控仪都有这个功能，个人觉得省一个水晶和废一灶产品之间还是要权衡再定！！

作者: otxtc 时间: 2011-10-1 10:58
也可参考某晶控的 RateWatcher 功能。
监控一段时间(取样)，然后挡住水晶Sensor，挡住期间用监控时的平均功率输出。
这种方法需要你的蒸发源相对稳定。

//借问一下， 100um厚度大概已不是光谱要求了，那是出于什么样的功能需求呢？

作者: coaterxf 时间: 2011-10-10 14:34

otxtc 发表于 2011-10-1 10:58
也可参考某晶控的 RateWatcher 功能。
监控一段时间(取样)，然后挡住水晶Sensor，挡住期间用监控时的平均 ...

你的主意很好。
我们也这么考虑过。
厚膜做X射线闪烁体用的。

作者: otxtc 时间: 2011-10-10 20:52
如果速率真的稳定，或许直接用时间控制更方便。
固定蒸发功率，蒸发一定时间，用台阶仪量厚度(什么方法无所谓)，然后换算出速率。以后就是速率乘以时间的事情。
看你的工艺了。

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