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标题: 双离子束溅射薄膜沉积在精密光学中的应用 [打印本页]

作者: yang1268 时间: 2011-6-27 14:04
标题: 双离子束溅射薄膜沉积在精密光学中的应用
本帖最后由 yang1268 于 2011-6-27 15:33 编辑

双离子束溅射（DIBS）沉积技术是一种制备优质薄膜的重要方法。这种方法主要特点是运用一个功率较大的溅射离子源产生高密度的高能离子轰击靶材，因而可以在高真空下实施高速溅射沉积。辅助离子源用来改善薄膜的致密度和反应度，实现在低温下超低光学损耗和超多层膜的制备。

  离子源常用RF激励源，其频率为13.56MHz。它使用离子源放电室的Ar气有效电离，电离产生的离子由屏栅正电场聚焦、加速栅的负电场加速后，经中和器电子中和后轰击靶材。溅射离子源中和器的工作气体一般为Ar，而辅助离子源为反应气体和氩气的混合气体。对常用的氧化物薄膜，氧气和氩气的流量比必须大于0.6，否则氧化膜容易产生吸收。

  DIBS技术已经在高精密光学薄膜技术中得到广泛的应用。DIBS系统工作稳定，长时间运行时，其工作气压、束流密度和加速电压等不稳定度可控制在0.5%以内。而且成膜速率快，膜层的光学、机械性能优良。

                              详情请参考 www.opturn.blog.sohu.com/entry/8463781/

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作者: yang1268 时间: 2011-6-27 14:04

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