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标题: 大家来讨论一下，关于蒸发速率的问题？ [打印本页]

作者: E501559 时间: 2011-7-1 11:27
标题: 大家来讨论一下，关于蒸发速率的问题？
我们用的是美国TELEMARK的电子枪，Sycon的膜厚控制仪，镀的是二氧化硅和二氧化钛，在镀二氧化钛的时候经常会速率不太稳定是怎么回事，大家讨论下吧！你们有没有遇到过类似问题！

作者: longmin 时间: 2011-7-2 07:00
除氣有完全嗎

作者: E501559 时间: 2011-7-4 08:43

longmin 发表于 2011-7-2 07:00
除氣有完全嗎

必须的，事先融过膜料的呀！

作者: 缘睐汝痴 时间: 2011-7-4 20:34
会不会是水晶片的问题

作者: chaser5623 时间: 2011-7-4 20:46
这个问题听说我实验室其他组的人在做

作者: 苏州膜头 时间: 2011-7-4 22:19

chaser5623 发表于 2011-7-4 20:46
这个问题听说我实验室其他组的人在做

兄弟你哪个实验室啊？

作者: fasces9 时间: 2011-7-30 16:20
我觉得得看下光斑大小上升时间等等，与光斑及膜料关系最大

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