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标题: Roth&Rau公司IonSys 1600大表面基底高精密双离子束溅射薄膜沉积（IBSD）系统 [打印本页]

作者: yang1268 时间: 2011-7-8 23:13
标题: Roth&Rau公司IonSys 1600大表面基底高精密双离子束溅射薄膜沉积（IBSD）系统
IonSys 1600及IonSys 1000 是Roth&Rau 公司提供的针对纳米量级多层或单层膜沉积的高精密光学薄膜沉积系统。

IonSys 1600可安装最大直径200mm或200mm×500mm的光学元件基底。该系统配有两个矩形离子源，一个样品夹具及可以安装6种靶材的转鼓。辅助离子源直接将离子束照射在基底表面，可以进行预处理，辅助薄膜沉积（调整薄膜应力，密度，微观结构等）以及基底表面处理等工艺。真空仓配有无油冷凝泵，本底真空10-6Pa。单个元件Load-Lock系统，可以极大的提高生产效率。IonSys 1600还可以针对客户需求配置相应薄膜在线观测系统（如椭偏仪，光谱仪），法拉第探针，晶控以及残余气体分析（RGA）等可选模块。

IonSys 1600系统可以精准的沉积并控制多种薄膜材料以及微观构造。例如Si，Mo,Al,Cr,Ni,C,B4C,MgF2,SiO2,TiO2,ZrO2,Ta2O5等。薄膜的沉积速率受到靶材及具体工艺的影响，一般来说，可以控制在2到20nm/min之间。针对薄膜均匀性要求较高，或者梯度折射率薄膜，IonSys 1600系统提供以下两种特殊的沉积方式：1沉积薄膜基底可以在自转的基础上做变速线性移动。2通过不同的整形挡板控制薄膜沉积的工艺。另外，结合基底的变速移动，该系统还可以沉积1维或2维的梯度式渐变多层膜（如贝尔镜）。系统片间重复性可以达到99.9%。

详情请参考公司技术博客http://opturn.blog.sohu.com/entry/8463781/
以及公司网址 http://www.opturn.com/newsdetail2.asp?ID=447

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作者: yang1268 时间: 2011-7-8 23:14

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