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标题: Roth&Rau公司线性ECR离子源 [打印本页]

作者: yang1268 时间: 2011-7-8 23:22
标题: Roth&Rau公司线性ECR离子源
   Roth&Rau（以下简称RR）公司成立于1990年，为德国上市公司，规模超过1000人，年产值近3亿欧元。 RR MiroSystem分公司是RR总公司的技术基础，有近80人，专注于等离子体和离子束技术，每年的研发投入超过100万欧元。其产品包括离子源，等离子体源，RIE, PECVD, 离子束溅射镀膜机（IBS），磁控溅射镀膜机（MS），离子束铣(IM), 离子束抛光机（IBF）等。其产品可应用于高反射膜、低损耗薄膜、DLC薄膜、光栅刻蚀以及非球面加工等方面。

类型             400-f                                  600-f
离子源尺寸       400 mm x 120 mm             600 mm x 120 mm
接口             特种法兰                特种法兰
冷却             水冷                   水冷
离子束流       500mA                               75mA
离子束能量       2000eV                               2000eV

线性离子源可制定大小，最大可以达到2000mm x 120 mm

详情请参考技术博客 http://opturn.blog.sohu.com/entry/8463781/
以及公司网站 http://www.opturn.com/productsplist.asp?pid=97

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作者: yang1268 时间: 2011-7-8 23:22

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