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标题: 镀膜时发现监控曲线和理论上的不一样！ [打印本页]

作者: lorniale 时间: 2004-4-1 23:26
标题: 镀膜时发现监控曲线和理论上的不一样！
我现在在做一个单半波的实验，就用了两种材料而已。开始觉得应该不是太难的，可是现在做下来，发现做的过程中，光控的曲线走下来的图形和理论上的差很多，是些什么原因呢？迷惑ing！！

作者: zz 时间: 2004-4-2 01:28
折射率不一样

作者: royyang 时间: 2012-6-25 09:21
我也困惑中

作者: fanlibo147 时间: 2012-6-30 00:09
膜系设计材料的折射率和你蒸镀材料的折射率差别较大，建议先摸清材料的折射率再重新计算膜系即可。

作者: fanlibo147 时间: 2012-6-30 00:10
膜系设计材料的折射率和你蒸镀材料的折射率差别较大，建议先摸清材料的折射率再重新计算膜系即可。

作者: funky5043 时间: 2012-10-11 10:03
先從分析正確單層膜n & k下手, 注意膜厚要相信光學擬合出的膜厚(用這膜厚值換算出機台鍍率), 否則干涉光譜的波峰谷位置會因為膜厚估錯而偏移.

Good luck!

作者: ouyuu 时间: 2012-10-26 23:06
光学膜厚（相同光学性能的理论膜厚）和实际膜厚是不一样的，原因是密度差。
使用离子源的时候，密度会高一点。

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