N能实现小功率激光器的自倍频,自调Q.另外光学超晶格PPLN也能自倍频。

一般的介绍而已,期待更多的东西
楼主从哪儿抄来的这么多东西?其实LN的应用大多华而不实,当然,现在算是用量最大的非线性晶体。其致命弱点是光损伤阈值太低,低温下性能不稳定,影响了在军事上(野外场合)的应用。其优点是可以大量生产(相对于KTP、LBO、BBO等熔盐法生长的晶体),成本低,故而产业化进程较快。
现在应用最多的场合是光通信中用作调幅器,还有隔离器等。
没有更好的其他的晶体去替代?
隔离器可以用钒酸钇,至于光通信用的调幅器,因为铌酸锂价格便宜(相对其它同样功能的晶体而言),暂时还没有其它的可替代品。
隔离器可以用钒酸钇,至于光通信用的调幅器,因为铌酸锂价格便宜(相对其它同样功能的晶体而言),暂时还没有其它的可替代品。
钒酸钇价格太高!!成本是LN的10倍,另外现在的LN年产量为上百吨,其他晶体远没这么大量!
另外LN光波导已批量生产.为什么说他华而不实哪??
其实要想弄清LN的更多用途只有自己去了解.
纸上德来终觉浅,决知此事要躬行!!1
没有更好的其他的晶体去替代?
没有!
至少现在没有!
楼主从哪儿抄来的这么多东西?其实LN的应用大多华而不实,当然,现在算是用量最大的非线性晶体。其致命弱点是光损伤阈值太低,低温下性能不稳定,影响了在军事上(野外场合)的应用。其优点是可以大量生产(相对于KTP、LBO、BBO等熔盐法生长的晶体),成本低,故而产业化进程较快。
现在应用最多的场合是光通信中用作调幅器,还有隔离器等。
一般的介绍而已,期待更多的东西
华瑞光学自己生长的光学级铌酸锂晶体和掺杂的铌酸锂晶体,在国内应该算是第一流的了。很少有人可以赶上,包括26所。
华瑞光学的几个小伙子都是很有一套的。
呵呵,企业对我国技术发展的贡献,我是比较佩服的。至少比现在许多科研单位和大专院校骗取国家科研经费,最后却尽是弄些华而不实的东西好多了。
请问楼上的,掺杂铌酸锂得到真正的应用了吗?据我所知,还远远没有。虽然中国人搞了一个掺杂的LN,号称“中国之星”,但真正应用还不多。
华瑞光学的朋友,给你们提一个建议,贵公司的网页可设计得不怎么样,有待提高。
另外说明一点,我前面所言铌酸锂的应用(调幅器和隔离器等)是指光学上的应用,低档一些的大量应用在SAW上。另外你们说的那么多的光波导方面的应用就是我说的调幅器。
继续灌水
看不到文章謝謝分享~~^^
目前做光全息存储好象重复性不是很好,似乎每一块用起来性能都不太一样。
不错!!
另外还有说明的就是全息存储的各个方面的研究和制作都还处于实验室阶段,还有相当一段路要走。
不过,这终究是方向之一。
请问,在哪儿可以买到PPLN晶体。另外,可以谈一些用PPLN倍频的应用吗?
华瑞光学的朋友,给你们提一个建议,贵公司的网页可设计得不怎么样,有待提高。
另外说明一点,我前面所言铌酸锂的应用(调幅器和隔离器等)是指光学上的应用,低档一些的大量应用在SAW上。另外你们说的那么多的光波导方面的应用就是我说的调幅器。
感谢你的建议!
我司前几天请了为高手正在从新制作.过几天就会看到全新的网页.
PPLN在国内浙大做的不错.
华瑞光学自己生长的光学级铌酸锂晶体和掺杂的铌酸锂晶体,在国内应该算是第一流的了。很少有人可以赶上,包括26所。
华瑞光学的几个小伙子都是很有一套的。
谢谢小吴的夸奖!
能得到你的表扬是很难得!!!
谢谢各位提供这么多铌酸锂用途的材料 。
支持你们
NICE!
好,谢谢光临!
LN易生长,成本低而且应用广泛;而PPLN制作难度大,成本高,而且制作工艺也不成熟,作为倍频晶体(蓝光和紫光或紫外光激光器的倍频晶体),与其他的倍频晶体相比,PPLN有什么优点?
LN周期极化时对电源的要求很高,需要高压肪冲波形发生器,对波形的要求很严格,谁能提供适合于LN周期极化用的电源的一些信息,包括供应商,价格等,谢谢!
我已发到你信箱里.
LN周期极化时对电源的要求很高,需要高压肪冲波形发生器,对波形的要求很严格,谁能提供适合于LN周期极化用的电源的一些信息,包括供应商,价格等,谢谢!
国产的设备就不错,在上海就可以买到.具体的型号就要看你自己的工艺需求了.
我已发到你信箱里.
谢谢,我已经给你回了信
请问,LN用于相位调制,怎么个用法,另外,现在又没有现成的相位调制器卖,用于激光的相位调制。!!!!!1
我想问一下,铌酸锂晶体单位面积能够承受的光功率有多大?
现在想用铌酸锂晶体的调制器,但是激光器的输出功率有2瓦,不知道行不行,
顶
www.eospace.com
绝对好好产品,好厂商.
以下是引用hujingjane在2004-12-3 18:35:22的发言:我想问一下,铌酸锂晶体单位面积能够承受的光功率有多大?
现在想用铌酸锂晶体的调制器,但是激光器的输出功率有2瓦,不知道行不行,
请问你是连续的还是脉冲的?
如果是连续的激光还可以。
LN的另外一个应用是基于相位调制的电场测量,利用M-Z结构将相位转换为幅度,可以用作电磁兼容领域的计量,我正在从事这方面的研究
LiNbO3
On its excellent optical and electrical properties, LiNbO3 is one of the most important materials used for the field of optics and electronics, such as laser components, wafers for surface acoustic wave devices, wafers for integrated optics applications and doped LiNbO3 crystals for nonlinear optics (MgO
iNbO3, ZnO: LiNbO3), photo-refractive effects devices (Fe
iNbO3), etc.
OPO, Frequency and Quasi-Phase-Matched (QPM) Doublers
LiNbO3 is commonly applied as not only frequency doubler (wavelength 1 mm) but optical parameter oscillator (OPO) pumped at 1.064 mm, as well quasi-phase-matched (QPM) doubler. HROPTICS supplies laser-grade LiNbO3 devices of (3-20) x (3-20) mm2 aperture and up to 60 mm length for frequency doubler and optical parameter oscillator, with high quality, large quantity and low price. Its properties show as follows:
|
Crystal Structure |
Trigonal, point group 3m |
|
Lattice Parameters |
a=5.148Å, c=13.863Å |
|
Density |
4.64 g/cm3 |
|
Melting Point |
1250 °C |
|
Curie Point |
1160 °C |
|
Mohs Hardness |
5 |
Dielectric Constant |
e11/e0 = 85; e33/e0 = 29.5 |
|
Absorption Coefficient |
~ 0.1%/cm @1064 nm |
|
Thermal Conductivity |
38 W/m/°C at 25°C |
|
Thermal Expansion Coefficient |
a1=a2 =2x10-6/°C, a3=2.2x10-6/ °C at 25°C |
|
Piezoelectric Strain Constant |
d22 = 2.04 x 10-11 C/N, d33 = 19.22 x 10-11 C/N |
|
Elastic Stiffness Constant |
CE11 = 2.04 x 1011 N/m2, CE33 = 2.46 x 1011 N/m2 |
|
Transparency Region |
3700 ~ 5000 nm |
|
Sellmeier Equations (l in mm) |
no2 = 4.9048+0.11768/(l2-0.0475)-0.027169l2 ne2 = 4.5820+0.099169/(l2-0.04443)-0.02195l2 |
|
Optical Homogeneity |
Dn ~ 5x105/cm2 |
|
Nonlinear Coefficients |
deff=13.6 d36(KDP) for OPO at 1064 nm deff =14.6 d36(KDP) for SHG at 1300 nm deff =45.0 d36(KDP) for QPM |
|
Refractive Indexes |
no ne2.220 2.146 @ 1300 nm 2.322 2.156 @ 1064 nm 2.286 2.203 @ 632.8 nm |
Electro-optic Coefficients (pm/V) |
Low frequency High frequencyg33 32 31 g31 10 8.6 g22 6.8 3.4 |
|
Damage Threshold |
250 KW/cm2 at 1064 nm (10 ns) |
X-CUT
76.2 diameter*0.5---1.0mm HR-LNX0305-10
Z-CUT
76.2 diameter*0.5---1.0mm HR-LNZ0305-10
Y-CUT
76.2 diameter*0.5---1.0mm HR-LNY0305-10
127.86° Y-cut,
76.2 diameter*0.50mm HR-LNY1040305
64° Y-cut,
76.2 diameter*0.5mm HR-LNY640305
Applications for Q-switch Elements
LiNbO3 is extensively used as electro-optic modulator and Q-switch for Nd:YAG, Nd:YLF and Ti:Sapphire lasers as well as modulator for fiber optics, etc. The transverse modulation is mostly employed for LiNbO3. If a LiNbO3 crystal is used as Q-switch crystal, the light propagates in Z-axis and electric field applies to X-axis, the refractive retardation will be G = pLno3¡22V/ld. MgO
iNbO3 and ZnO: LiNbO3 crystals have similar electro-optic properties to LiNbO3 but with higher damage threshold. The specifications of LiNbO3 Q-Switch Elements listed as the following table:
LiNbO3 Q-Switch Elements
|
Standard Dimension |
9x9x25 or 10x10x20mm3 (other dimension is also available upon request) |
|
Dimension Tolerance |
X Y-axis: ± 0.1mm ; Z-axis: ± 0.3mm |
|
Wavefront Distortion |
l/4 @633nm |
|
Orientation Accuracy |
X Y-axis: 10'; Z-axis: 5' |
|
Flatness |
l/8 @632.8nm |
|
Parallelism |
10" |
|
Scratch/Dig Code |
10/5 per MIL-O-13830A |
|
Chamfer |
0.5 mm at 45º ± 5º |
|
AR-Coating |
R 0.2% @ 1064 nm |
|
Electrodes |
Gold electrode on X-faces |
|
Extinction Ratio |
400:1 @ 633 nm for f 6mm beam) |
`
LiNbO3 crystal is widely applied as an excellent acousto-optic material for surface acoustic wave (SAW) devices (such as filters, oscillators and resonators) and ultrasonic transducer due to its high electro-mechanical coupling factor, low acoustic transmission loss, stable physical and chemical properties.
HROPTICS can supply large quantities of LiNbO3 boules, as-cut or finished f3" wafers available up to 6,000~ 9,000 pieces per month with good quality and very low price. The basic specifications and typical properties for LiNbO3 SAW wafer are listed as following:
Bsic Specifications of LiNbO3 SAW Wafer
|
Standard Dimension |
f3.0² (±0.01²) x 0.51 mm (±0.05 mm) |
Typical Orientation |
1) 127.86° Y-cut, 2) 64° Y-cut, 3) Y-cut, 4) Z-cut |
Surfaces Finish |
One surface mirror polished to Ra less than 10Å, reverse surface fine ground |
Bow |
20 mm |
Typical properties of LiNbO3 SAW Wafer
Orientation |
127.86° Y-cut |
Y-cut |
|
SAW Velocity |
3970 m/s |
3485 m/s |
|
Electromechanical Coupling Factor |
Ks2=5.5% |
Ks2=4.3% |
|
Temperature Coeff. of Delay (TCD) |
78 x 10-6/°C |
95 x 10-6/°C |
|
Temperature Coeff. of Velocity (TCV) |
-60 x 10-6/°C |
-80 x 10-6/°C |
Aperture |
1.0 x 1.0 mm2 to 4 x 4 mm2 |
Dimension tolerance |
+/-0.05mm |
Wedge Angle tolerance |
+/-0.1o |
Optical axis orientation |
+/-0.5o |
Flatness |
l/4 @632.8 nm |
Surface Quality |
20-10 |
AR-coating |
R0.2% |
Standard Sizes |
a) 1.25mmx1.25mmx0.25mm(top end) or |
Cutting Angle |
q=90o, f=22.5o |
Wedge Angle |
13o or 15o |
Coating |
Two apertures AR coated typically for ~1550nm |
Quantities Available |
50,000 to 70,000 per month |
LiNbO3 crystal is the mostly used inorganic substrate for electro-optic waveguide applications.
Specifications of LiNbO3 Waveguide Substrates
|
Standard Dimension |
1) 50x50x1 mm3 for X-cut, Y-cut, or Z-cut 2) f 3"x1 m m3 for Y-cut or Z-cut 3) Other dimension is available upon request. |
|
Orientation Tolerance |
10' |
|
Surfaces Finish |
One surface polished to better than l/2 (with mount) and free from surface defects when observed by a 50X microscope, the other face fine ground |
. Magnesium Oxide Doped Lithium Niobate (MgO
iNbO3)
今天发现帖子置顶了,感谢斑竹,希望有关光学LN的朋友多多交流.
公司动态:
2006年5月再新增2台3英寸光学铌酸锂(LN) 单晶炉.其中3英寸Mg
N月产量10千克,Fe
N5千克.纯LN晶体15千克.欢迎考察选购.
公司动态
2006年元月15号公司网站更新后同大家见面.欢迎大家浏览.
N
N
13楼的朋友说的很好,从60年代对LN的开发生产,到现在的大量生产及使用,这无疑是经过了反复的研究
而不久的将来KTP、LBO、BBO等熔盐法生长的晶体相信也会如此
LZ,"这种光学参量振荡器,有很高的转换效率,最高转换率可达到80%左右,理论上认为最高转换率可达到300%。"
请解释一下,300%的理论效率?
不過铌酸锂晶体在這些应用上
其製程是否很難達成?
LN做电光Q开关的最大优点就是所要的电压低,在我们的实验中,200来伏就够了。(BBO要1KV左右,KDP要差不多4KV)
问题就是光伤阈值低,压电效应强,共振频率低,我们用几KHz的调Q重复频率就可以从输出光脉冲里面看到晶体的共振。不适合做高功率高重复频率的调Q.
本公司为LN系列晶体,提供包装盒:
1.LN楔角片---自吸附盒系列
2.LN大块晶体---弹性盒系列。特别9*9*25或9*9*30请选用CPK-M-7816
公司目前主要设备有:
生长设备:中频感应加热单晶炉60台
,
烧结、退火极化设备30台。
加工设备:HYPREZ 型号ENGIS双面研磨、抛光机4台,X62 830-1型号单面减薄抛光机15台,C62 640-2/YJ9B型号双抛机4台,QP301D型号切割机10台,线切割机一台,DISCO321型号划片机2台,自动粘片机2台,自动倒角机2台等
检测设备:居里温度测试仪,激光平面干涉仪,粗糙度检测仪,大功率激光器等
清洗设备:超声波清洗机1台
压电级铌酸锂单晶
1. 晶体轴向: X Y Z, Y64, Y127.86, Y135
2. 轴向精度: ±0.2,晶体二端面抛光。
3 直径: 100.0±0.5 mm, 76.2±0.5 mm, 50.8 ±0.5mm
4. 长度: 40~100 mm。
5. 居里温度:1142±1C
6. 第一参考面定向精度: 小于±0.20。
7. 第一参考面长度: 32±2 mm (4〞),22±2 mm (3〞)
8. 第二参考面: 12±3 mm (4〞),10±3 mm (3〞)
9. 外观:无开裂、气泡及杂质
光学单晶铌酸锂光学单晶
1. 晶体轴向: X, Z
2. 轴向精度: ±0.20, 晶体二端面抛光。
3. 直径: 76.2±0.5 mm 100±0.5mm
4. 长度:40~80 mm。
5. 居里温度:1142±1C
6. 第一参考面定向精度: 小于±0.20。
7. 第一参考面长度: 22±2 mm(3〞)。 32±2 mm (4〞)
8. 第二参考面: 10±3 mm
9. 外观:无开裂、气泡及杂质。
10.晶体的光学特性:
(1)透光波段:370—5000nm
(2)折射率:(633nm)no=2.286 ne=2.200
(3)折射率梯度(633nm)≤5×10-5/cm
(4)光透过率(633nm)≥68%
(5)双折射率:△n= no - ne≈0.08
掺杂光学铌酸锂晶体
1. 材料: (1)掺铁铌酸锂晶体(0.1---1mol%)(Fe
N)
(2)掺镁铌酸锂晶体(5--6mol%) (Mg
N)
2.晶体轴向: X, Z 及各种规格
3.轴向精度: ±0.20, 晶体二端面抛光。
4.直径: 76.2±0.5 mm
5.长度: 40~80 mm。
6.第一参考面定向精度: ±0.20。
7.第一参考面长度: 22±2 mm。
8.第二参考面: 10±3 mm
9.外观:无开裂、气泡及杂质。
晶片
1.光学LN晶片的要求:
1晶片直径: Φ76.2±0.5mm Φ100±0.5mm
2晶片厚度:(1) 0.50±0.05mm (2) 1.0±0.05mm (3) 0.79±0.01mm
(4) 0.71±0.01mm (5) 0.66±0.01mm
3晶片弯曲度:≤ 10um
4晶片锥度:≤ 10um
5晶片轴向:要求的轴向±0.20
6基准边和方向要求:
(1)基准面——不超过 ±0.20
(2)基准长度: 22±2mm。
(3)第二基准长度: 10±3mm
7晶片表面抛光质量:
(1)晶片表面:晶片双面抛光10/5
(2)晶片倒角:保护性倒角。
8居里温度:1142±1C
2.晶片光学性能:
(1)透光波段:370—5000nm
(2)折射率:(633nm)no=2.286 ne=2.200
(3)折射率梯度(633nm)≤5×10-5/cm
(4)光透过率(633nm)≥68%
(5)双折射率:△n= no - ne≈0.08
3.不同方向晶片的规格:
1 X-cut
(1)轴向:X±0.20
(2)基准方向:Z轴
(3)第二基准: 沿Y轴顺时针方向转135度
2 Z-cut
(1)轴向:Z±0.20
(2)基准方向:X轴
(3)特殊规格按客户要求。
4. 包装:
(1)晶片经清洗后被包装在塑料盒内,每盒25片。内附产品合格证及产品检验报告。
压电级铌酸锂晶片
一般LN晶片的要求:
1晶片直径:(1)Φ76.2±0.5mm (2) Φ100.0±0.5mm
2晶片厚度:(1)0.50±0.05mm (2) 0.35±0.03mm
3晶片弯曲度≤ 40um
4晶片锥度≤ 20um
5晶片轴向:要求的轴向±0.20
6基准边和方向要求:
(1)基准面——不超过 ±0.20
(2)基准长度:(1)22±2mm (2)32±2mm
(3)第二基准长度:(1)10±3mm (2)12±3mm
7晶片表面抛光质量:
(1)晶片表面:镜面抛光10/5
(2)晶片背面:客户可自定粗糙度指标。
(3)晶片倒角:保护性倒角。
8晶片居里温度:1142±2C
2.不同方向晶片的规格:
36Y-cut
1轴向:36Y±0.20
2基准方向:X轴
3第二基准:无
42Y-cut
1轴向:42Y±0.20
2基准方向:X轴
3第二基准:沿第一基准顺时针方向转180度作第二基准。
X-112Ycut
1轴向:X轴±0.20
2基准方向:+112Y
3.包装:
晶片经清洗后被包装在塑料盒内,每盒25片. 内附产品合格证及产品检验报告1、LN楔角片
Specifications:
Aperture | 1.0 x 1.0 mm2 to 4 x 4 mm2 |
Dimension tolerance | +/-0.05mm |
Wedge Angle tolerance | +/-0.1o |
Optical axis orientation | +/-0.5o |
Flatness | l/4 @632.8 nm |
Surface Quality | 20-10 |
AR-coating | R0.2% |
Standard Sizes | a) 1.25mmx1.25mmx0.25mm(top end) or |
Cutting Angle | q=90o, f=22.5o |
Wedge Angle | 13o or 15o |
Coating | Two apertures AR coated typically for ~1550nm |
Quantities Available | 50,000 to 70,000 per month |
2、E-O开关
LiNbO3 Q-Switch Elements
Standard Dimension | 9x9x25 or 10x10x20mm3 (other dimension is also available upon request) |
Dimension Tolerance | X Y-axis: ± 0.1mm ; Z-axis: ± 0.3mm |
Wavefront Distortion | l/4 @633nm |
Orientation Accuracy | X Y-axis: 10'; Z-axis: 5' |
Flatness | l/8 @632.8nm |
Parallelism | 10" |
Scratch/Dig Code | 10/5 per MIL-O-13830A |
Chamfer | 0.5 mm at 45º ± 5º |
AR-Coating | R 0.2% @ 1064 nm |
Electrodes | Gold or Cr electrode on X-faces |
Extinction Ratio | 400:1 @ 633 nm for f 6mm beam) |
3、LN optical modulation,(LN调制器)
Standard Dimension | 1.5*1.5*30mm,4*2.5*60mm1.5*1.5*60mm |
Dimension Tolerance | X Y-axis: ± 0.1mm ; Z-axis: ± 0.3mm |
Wavefront Distortion | l/4 @633nm |
Orientation Accuracy | X Y-axis: 10'; Z-axis: 5' |
Flatness | l/8 @632.8nm |
Parallelism | 10" |
Scratch/Dig Code | 10/5 per MIL-O-13830A |
Chamfer | 0.5 mm at 45º ± 5º |
AR-Coating | R 0.2% @ 1064 nm |
Electrodes | Gold or Cr electrode on X-faces OR Z-face |
Extinction Ratio | 400:1 @ 633 nm for f 6mm beam) |
4、LN光波导片
LiNbO3 Waveguide Substrates
Standard Dimension | 1) 50x50x1 mm3 for X-cut, Y-cut, or Z-cut 2) f 3"x1 m m3 for Y-cut or Z-cut 3) Other dimension is available upon request. |
Orientation Tolerance | 10' |
Surfaces Finish | One surface polished to better than l/2 (with mount) and free from surface defects when observed by a 50X microscope, the other face fine ground |


掺铁铌酸锂性能指标
晶体尺寸:Φ80-100*30-80
掺杂量:0.01mol% -0.15mol%,用户可定
最大折射率调制度:2.8*10-5
灵敏度:14.6*10-2cmJ-1
动态范围4.2
写入时间:75s
擦除时间:540s
掺锌铁铌酸锂性能指标
晶体尺寸:Φ80-100*30-80
掺杂量:Zn6mol% Fe0.03mol%
最大折射率调制度:1.6*10-5
灵敏度:14*10-2cmJ-1
动态范围0.7
写入时间:40s
擦除时间:55s
赞同,LN的应用大多华而不实,我们主要用它来做电光Q开关。
RTP性能比之更好,应用前景更广泛
可用于产生光折变表面波和制作表面波导









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