光电工程师社区

标题: 鍍膜過程中上下圈折射率不同 [打印本页]

作者: material 时间: 2004-5-4 19:21
标题: 鍍膜過程中上下圈折射率不同

大哥大姐好…

在鍍膜過程中，發現傘上內外圈分佈不均勻，造成鍍膜沒有辦法整傘上(最下圈折射率較低)，請問各位先進是什麼原因造成，以及解決之道。

作者: lwh 时间: 2004-5-4 19:31

可能是溫度份佈不圴造成的吧。

作者: material 时间: 2004-5-5 05:07

試過溫度加高，或是時間加長，使整個chamber溫度達到均一，但還是內外圈折射率不一…故溫度好像不是主因。

作者: 对与错 时间: 2004-5-6 00:13

修伞差

作者: yin99 时间: 2004-5-6 00:43
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作者: material 时间: 2004-5-6 18:04

我是使用RF機台.....並不是使用離子槍…故應該跟離子源無關…

還有沒有更好提議…

作者: chugqchugq 时间: 2004-5-10 01:01
蒸发角,没办法解决。

作者: 对与错 时间: 2004-5-22 04:19
伞差吧，调补正板

作者: optin 时间: 2004-5-23 02:21
请教对与错 ：伞差？补正板？

作者: hutu 时间: 2004-5-23 21:03

续上你的讨论，你的上下圈材料的折射率变化是不是由于透过率曲线发生了一定的移动？

如果是这样，那可能有三种情况发生：1. 折射率减小; 2. 膜层厚度减小; 3. 两个都减小的综合结果. material, 我想请教一下,您是根据什么判断是折射率减小的? 请大家提出高见.

作者: 阿俊 时间: 2004-5-25 06:25

RF 既等离子枪而已.调整氩气和氧气的流量,或调整电流,RF发射角度.都会造成上下膜差.如果这些都不能解决的话,再来调修正板比较实际.

作者: kuan 时间: 2004-5-26 17:08

我總覺得修傘差不是很好的辦法

既然溫度差不多...........................

是不是氧氣反應的不齊全阿???

調整氧氣管的位置試試吧

作者: lcoating 时间: 2004-6-5 23:22
温度、离子能量、蒸发入射角的差异导致的薄膜结构差异，导致折射率不同，建议如果有条件可以比较一下微观结构差异，然后分析原因，解决。可能温度影响较大，尤其是镀膜过程中的辐射热积累造成的差异。

作者: 比尔 时间: 2004-6-14 02:17

我同意11楼的说法，实属高见！

作者: darkspace4321 时间: 2004-6-15 07:28
标题: 回复：（material）鍍膜過程中上下圈折射率不同
可加挡板并增加蒸发源数目.

作者: zjtzzw 时间: 2004-6-16 02:00
很可惜我不太懂，要不一定告诉你

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