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标题: 膜层发雾，怎么办？？ [打印本页]

作者: yin99 时间: 2004-5-6 05:28
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作者: material 时间: 2004-5-6 18:17

意料中ㄉ事…

兩個解決方式…一、使用ta2o5和sio2，再加層數…不過你會遇到另一個問題…

另一個方法…調整離子槍參數或發射角度…不過效果不大…礙於先天機台特性(我大約知道你用什麼機台)…故無解…

之前我也有相同困擾…不過我解決了…因為我有方法不會使tio2-iad和sio2不會霧化ㄉ方法…也就是不會吸收…哈哈…

作者: sanma 时间: 2004-5-7 03:35
主要由于电子枪不好，用的是国产机吧，膜太粗糙，可以蒸慢点试试

作者: wanghd 时间: 2004-5-7 21:03
膜層發霧, 如鍍膜膜層的粗糙度有關, 以及鍍完膜以后,不能太快的施加外部空氣

作者: zjtzzy 时间: 2004-5-7 23:29
简单改造一下设备即可。

作者: xwse1 时间: 2004-5-22 02:48
鍍完膜以后,不能太快的加空氣

作者: lishengmin 时间: 2004-5-22 03:31
对，延长降温时间试试

作者: chou5408 时间: 2004-5-30 22:41
鍍完膜以后,不能太快的加空氣

作者: yeye 时间: 2004-5-31 03:22

二楼的朋友，你能详细说一说吗？

作者: lcoating 时间: 2004-6-5 22:48

兩個解決方式…一、使用ta2o5和sio2，再加層數…不過你會遇到另一個問題…

什么问题？Ta2O5是很稳定的，难道还是与设备有关？

作者: ycxmy 时间: 2004-6-6 05:27
同意2楼说法。

作者: zz 时间: 2004-6-7 03:46

不同意楼上的,雾化不等于吸收

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