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标题: 耐压>0.2v/nm的薄膜制作 [打印本页]

作者: qhbd 时间: 2004-5-28 19:42
标题: 耐压>0.2v/nm的薄膜制作
一般的耐压介质材料氧化钽、氧化铝等，但怎么做才能作出耐压性能优良的薄膜呢，请各位专家赐教。

作者: likeoe 时间: 2004-5-29 18:28

镀多厚，用什么方法？

击穿与材料本身的介电特性相关，也与杂质有关。

作者: qhbd 时间: 2004-5-30 02:14
膜厚大约在6000埃左右，采用金属+介质+金属（MIM）结构检测

作者: likeoe 时间: 2004-5-30 12:27

用电子枪蒸发还是溅射？是不是在一个真空室完成三层膜？我在考虑中间的介质层是不是受污染了，或者杂质浓度很高，或者其他缺陷严重。

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