光电工程师社区

标题: 为什么不用Si作光通信用薄膜的高折射率材料 [打印本页]

作者: ttl    时间: 2004-5-28 21:59
标题: 为什么不用Si作光通信用薄膜的高折射率材料

薄膜设计上膜料的折射率相差越大, 膜系越简单. 在1200-1700nm范围内, Si的折射率比现在用的高折射材料Ta2O5, TaO2高的多, 为什么不用Si作光通信用薄膜的高折射率材料?


作者: likeoe    时间: 2004-5-29 06:36

可能原因:Si不稳定,Si的折射率受氧化程度影响严重,而且Si很容易被氧化。而用于光通信产品的一个重要特征是稳定,化学稳定性要好,温飘要小。


作者: yin99    时间: 2004-5-29 18:12
提示: 作者被禁止或删除 内容自动屏蔽




欢迎光临 光电工程师社区 (http://bbs.oecr.com/) Powered by Discuz! X3.2