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标题: 磁控溅射镀膜问题 [打印本页]

作者: junjun8xuhao 时间: 2011-7-27 11:17
标题: 磁控溅射镀膜问题
我用的是直流溅射Ti靶，沉积到单面抛光的单晶硅基底上，100W，Ar 1.0Pa，1h。照理Ti层应该是金属色的，结果靶材中间溅射掉的那圈呈紫色，基底的Ti膜也呈绿紫色。同样的基底，相同的参数，在镀Cr膜、W膜时都是很正常的金属色。

有人说是材料放气的原因，对于放气我不是很懂。既然基底在做别的膜时没问题，那就可能是靶材放气？是钛靶质量不过关吗，里面含有氧气之类的？

作者: filmokay 时间: 2011-7-27 16:06
Ti纯金属不容易溅射的吧，容易形成化合物，如TiN等

作者: kl0000 时间: 2012-5-30 14:17

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