光电工程师社区
标题: 请教:Ta2O5是否适合用来镀制355nm的增透膜 [打印本页]
作者: pupilfyfi 时间: 2004-6-13 06:55
标题: 请教:Ta2O5是否适合用来镀制355nm的增透膜
请问有谁知道Ta2O5的透明波段,是否适合在355nm波段镀制增透膜,355nm处的消光系数大概有多大(IAD),谢谢!
-
nLirQbIc.gif
(3.82 KB, 下载次数: 124)
-
-
WLWjLGDH.pdf
55.84 KB, 下载次数: 38, 下载积分: 光电贝 -10 元
请教:Ta2O5是否适合用来镀制355nm的增透膜
作者: likeoe 时间: 2004-6-13 20:31
transparent region for Ta2O5 is from 300 to 10000 nm.
作者: ic5 时间: 2004-6-14 01:59
楼上的,Ta2O5的透射波段是300~10000nm吗?具我查找的资料怎么是350~9000呢?在300~350和9000~10000的范围内其吸收系数为多少呢?请不吝赐教!
作者: likeoe 时间: 2004-6-15 09:43
Tic5
有两处地方基本上显示300nm。一是这个图,二是附件(是德国一家材料供应商提供的)。申明:我没做过Ta2O5,所以没有直接数据。
[attach]2112[/attach]
作者: zjtzzw 时间: 2004-6-16 02:02
有图一看就明白了,谢谢啦
作者: jackonlee 时间: 2004-6-16 03:51
HfO2镀膜在紫外波段比较好。
作者: pupilfyfi 时间: 2004-6-22 04:28
非常感谢likeoe的帮助,谢谢
作者: pupilfyfi 时间: 2004-6-23 05:28
to likeoe
请问能否将关于ta2o5的附件发给我,因为我的文章数量不够,不能浏览。谢谢!
pupilfyfi@hotmail.com
| 欢迎光临 光电工程师社区 (http://bbs.oecr.com/) |
Powered by Discuz! X3.2 |