光电工程师社区

标题: 什么样的膜比较致密 [打印本页]

作者: qhbd 时间: 2004-6-18 22:10
标题: 什么样的膜比较致密
请问有什么介质膜比较致密?（非晶状态）

作者: zz 时间: 2004-6-20 05:59
有这么问的吗？你工艺好什么膜都致命

作者: rmchen 时间: 2004-6-20 08:06
常规工艺下通常低折射率的氧化物薄膜更致密，例如Al2O3和SiO2，都可以做金属膜的保护层。也有人认为MgF2和ZnS膜较致密的。

作者: ic5 时间: 2004-6-20 16:52

膜层的致密性可能和你沉积的工艺有关系，如：离子源辅助、溅射、低温等

作者: likeoe 时间: 2004-6-20 16:58

以下是引用rmchen在2004-6-20 0:06:51的发言： 常规工艺下通常低折射率的氧化物薄膜更致密，例如Al2O3和SiO2，都可以做金属膜的保护层。也有人认为MgF2和ZnS膜较致密的。

有根据吗？致密与折射率高低有关？

作者: heyanch 时间: 2004-6-20 21:53

没有根据。

作者: coatingzhang 时间: 2004-6-21 03:19
溅射的较致密

作者: zz 时间: 2004-6-21 05:09
越致命折射率越高吗？SIO2致命吗？？？

作者: rmchen 时间: 2004-6-21 07:26
如果有离子辅助或者溅射，自然膜会致密；但在蒸发工艺下，Al2O3和SiO2是较致密的，它们会形成网格状结构，而非TiO2那样的柱状结构，所以保护性较好。恰巧这两种膜都是低折射率材料，并非折射率和致密性之间有什么联系。

作者: chugqchugq 时间: 2004-6-22 22:45

LaF3热门吗？

作者: Jesus 时间: 2004-6-24 01:06

是否可以根据成膜的折射率与该种材料的体材料的折射率的接近程度来判断成膜是否够致密呢?

作者: zz 时间: 2004-6-24 06:09
越致命N越高，但应有限制，不可能一样高。除非致命度差太多，否则不好判断。

欢迎光临光电工程师社区 (http://bbs.oecr.com/)