光电工程师社区

标题: 光学元件加工的讨论 [打印本页]

作者: qx__wei 时间: 2004-6-21 03:33
标题: 光学元件加工的讨论
这里，大家对粗糙度讨论的不多？高精度的光学元件不仅需要高的光洁度（表面疵病），面形精度，也需要很低的表面粗糙度，在光学冷加工领域大家讨论的不多，我现在正在进行这方面的尝试，希望能有更多的朋友参与，希望能得到专家的指点。

作者: xyqy 时间: 2004-6-21 23:35

是超光滑加工的范畴，属于光学加工的讨论范围。

要讨论的话，需要你先提一些东西出来供大家讨论。

作者: qx__wei 时间: 2004-6-22 02:44

古典抛光方法能达到这个水平吗？

分离器能达到这个水平吗？

市场上有浴法抛光的机床吗？

谢谢！

作者: cgh0127 时间: 2004-6-22 04:55
分离器肯定不行，古典法效率低而且工艺复杂。浴法抛光机床可以自己搞啊！楼上的朋友是抛什么材料呀？球面还是平面？平面我可以给你试试。

作者: cgh0127 时间: 2004-6-22 05:15
对了，有意请短信联系13032114340。交个朋友！我抛过要求小于0.5nm的基片。

作者: jackonlee 时间: 2004-6-22 05:51

楼上！您是用什么能够达到小于0.5nm的，指得是以上三种中的，还是别的？

谢谢！

作者: huyan123 时间: 2004-6-22 16:28

用一般的抛光粉能达到0.5nm的光洁度吗？

作者: qx__wei 时间: 2004-6-22 17:14
标题: 浮法抛光可以吗？
浮法抛光可以达到这个水平，国内有这样的机床吗？锡盘的加工是个难点。

作者: qx__wei 时间: 2004-6-22 17:26
标题: 什么材料？
你抛的是什么材质的玻璃，使用什么抛光粉？

作者: cgh0127 时间: 2004-6-23 06:54
一般抛光粉肯定不行，不同加工材料要针对不同的抛光液。软而且不稳定的材料不太好对负。例如做DWDM的基片。锡盘的加工的确有难度，古典法还是比较练手的。胶的洁净度和材料配比很重要。干这个越深入越感觉什么都不会啊！头都大了！直想改行。有用聚四氟乙烯抛光盘的，可以保证面形精度。但盘的制做难道更大。

作者: qx__wei 时间: 2004-6-24 03:05

胶的洁净度，国内的可以吗？

作者: cgh0127 时间: 2004-6-25 04:21
国外的不见得好。贵的要命！国内的你也知道，他们都是用大锅熬出来的，想想也不会好。买回来自己精心过滤一下吧！问问是不是用的新疆独山子的沥青。稍好一些。用古典发抛一般的玻璃，想达到超光滑标准，小于1nm还是很容易的。

作者: qx__wei 时间: 2004-7-2 02:20
新疆独山子的沥青？怎么联系？

作者: cgh0127 时间: 2004-7-2 04:14
问问卖胶的，问他的沥青是哪里的原料就行了！

作者: arrow 时间: 2004-7-2 23:43

tcgh0127 ，我想请教一下，对于dwdm基片，可以达到的精度是多少？你是用古典法抛光吗？

我刚做，要用多大直径的抛光粉？沥青用哪里的比较好？

谢谢指教！

作者: cgh0127 时间: 2004-7-3 06:31
DWDM基片种类有很多种，差异比较大。100G的基片表面要求应该在0.5nm以下。不同的镀膜机要求也是不同的。古典法可以做到，效率很低。沥青我上面提到了！

作者: casix 时间: 2004-7-8 23:02

以下是引用cgh0127在2004-6-22 22:54:22的发言： 一般抛光粉肯定不行，不同加工材料要针对不同的抛光液。软而且不稳定的材料不太好对负。例如做DWDM的基片。锡盘的加工的确有难度，古典法还是比较练手的。胶的洁净度和材料配比很重要。干这个越深入越感觉什么都不会啊！头都大了！直想改行。有用聚四氟乙烯抛光盘的，可以保证面形精度。但盘的制做难道更大。

DWDM的基片用得着这种粗糙度要求吗？

没故弄玄虚吧？

作者: cgh0127 时间: 2004-7-10 05:17
信不信由你。有的镀膜机的确不需要太好的粗糙度。

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