光电工程师社区

标题: 波前畸变？ [打印本页]

作者: jackonlee 时间: 2004-6-29 00:16
标题: 波前畸变？

请问波前畸变是什么概念？

它和平面度有和区别？

反射波前畸变和透过波前畸变各指什么？

谢谢！

作者: everblue2000 时间: 2004-6-29 01:14
好

作者: lzk 时间: 2004-6-30 05:48

我个人认为透过波前畸变是晶片两个面平面度的一个综合，加上材料本身的均匀性不好等的一个综合性指标。而平面度指标只是一个纯粹的一个加工表面的指标。（纯属个人观点）

至于反射波前畸变也不清楚还请哪位高手解释一下。

作者: jackonlee 时间: 2004-6-30 23:17

我同意楼上的看法

透过波前畸变是一个综合指标

作者: jiangyongs 时间: 2004-7-1 01:05

我理解的透过波前畸变产生的原因就是一束光波经过零件时光程n*d不相等，n时材料折射率d是光在零件中走过的路程。当n一定时，即使单个面的面形很差，但如果能做到两个面面形互补（即处处d相同），那么透过波前畸变同样会很好

反射波前畸变指零件的表面面形有缺陷，引起的一束光波经反射后波前变形。

作者: lzk 时间: 2004-7-1 20:09
同意楼上的观点，但是有时候晶体内部有轻微的均匀性问题时候要采取哪一种修正方法来控制使透过波前畸变达到最好的时候比较难。

作者: jackonlee 时间: 2004-7-3 00:45

以下是引用jiangyongs在2004-6-30 17:05:41的发言：

反射波前畸变指零件的表面面形有缺陷，引起的一束光波经反射后波前变形。

按你的意思，就是两个面的平行度要好。

你所说的反射波前畸变好像跟平面度差不多，指表面面型。

本人认为都与平面度有关，透过波前畸变是一个综合指标，反映加工的水平。

反射波前畸变可能指的就是平面度，所以很少听说。

作者: xin396 时间: 2004-8-7 01:02
平面度可能是表征一个单面的。波前表征两个面。两个结合起来就可以显示这个基片的总体质量吧？

作者: 一塌糊涂 时间: 2004-8-16 07:43
波前畸变由入射表面，出射表面，和介质均匀性综合决定，如果光学材料内部条纹和包络（尤其是晶体内部有断层，位错等情形）比较严重时，面型再好，波前畸变也不能做的很好，想通过面型来修正波前畸变的话，除非那个抛光的兄弟是高手中的高手，想在什么地方低一点高一点都可以做到，然后一边抛光一边检测，这样可以做到，不过如果这样做了，面型肯定就费常糟糕了

作者: rochon 时间: 2004-8-16 21:13
应该说是光经过光学元器件时光程不等造成的信号畸变，直观的表现就是由面形和平行度以及材料均匀性决定的！有些时候面形不好但平行度好（也就是我在使用范围内等厚），波前畸变也可以很好的。

作者: bigi007 时间: 2004-8-22 22:05
hao

作者: xubin1-1 时间: 2004-8-30 17:49

作者: mincailiu 时间: 2004-9-1 22:26
透射波前畸变与平行度无关

作者: 刘建 时间: 2004-9-7 21:05
面形质量和材料质量影响波前畸变

作者: jackonlee 时间: 2005-4-25 19:39
楼上高手认为波前畸变是一个综合指标
那和光学均匀性无法区别了？？？？？？？

作者: 南山采樵翁 时间: 2005-4-25 21:03
标题: 关于波前畸变
首先应该知道：波前是指“光波振动相位相同的点所构成的面”，也叫波面。通常波前畸变是通过干涉仪来测量的，其原理是光程差的变化。透射波前畸变反映了材料的光学均匀性，因此很多激光材料都需要对此参数进行度量。

作者: xueyan 时间: 2005-4-26 22:19
问各位高手一个菜问题，波前畸变如何测量？

作者: 南山采樵翁 时间: 2005-4-26 23:16
回复17楼：双程型干涉仪可以测材料的透过波前畸变。

作者: 联合晶体 时间: 2005-4-27 01:00
怎么去解决这个问题呢？

作者: jackonlee 时间: 2005-4-27 03:59
18楼你好
怎么没有听说过双程型干涉仪
能否介绍一下或说明那种仪器可测？？？？？？

作者: 南山采樵翁 时间: 2005-5-8 23:48
回复20楼：你好！
干涉仪是利用光的干涉原理测定光程差或其它光参量的仪器，双程型干涉仪两相干光束中的测试光束通过被测样品后，由测试反射镜反射，再次通过被测样品，因此测试光束是两次通过被测样品。泰曼-格林型干涉仪就是一种双程型干涉仪。

作者: xyqy 时间: 2005-5-9 16:25
不用搞得这么复杂，一般菲索干涉仪加一个标准平板就可以测量了。

作者: 南山采樵翁 时间: 2005-5-10 19:41
jackonlee：最主要的是你测波前畸变的目的是什么呢？因为20楼的方法是度量加工的平面度，泰曼干涉仪测量波前畸变是为了度量材料的光学均匀性。目的不同当然方法有异。

作者: jackonlee 时间: 2005-5-11 06:49
楼上，您越说我越糊涂
按您的说法波前畸变和光学均匀性没有区别了，只是度量的方法不同而已
您能具体的说一下这两个的差别吗？
谢谢！

作者: 南山采樵翁 时间: 2005-5-11 22:56
Jackonlee,你好。首先你还没回答我：测波前畸变的目的是什么？
然后，光学均匀性是材料的一种性质，而波前畸变是反映这一性质的一个指标——注意是“透射的波前畸变”。

作者: jackonlee 时间: 2005-5-12 00:01
楼上，你好！
加工过程中，客户要求波前畸变达到多少。
我觉得光学均匀性主要是材料本身的性质，与材料的生长质量有关。
而波前畸变和加工有关，主要反应加工过程的综合质量

作者: 南山采樵翁 时间: 2005-5-12 18:57
Jackonlee：看来你是做光学加工的。关于光学均匀性与波前畸变的关系，我认为可以这样说：如果给你一块光学均匀性很差的晶体，那么你很难通过加工得到很理想的波前畸变（我们叫pv值）。单纯的看加工后的面型，用标准平板就可以，这个问题你可以与22楼的xyqy交流一下，我觉得他可能是个中高手。

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