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标题: 关于离子清洗 [打印本页]

作者: fulong927 时间: 2004-8-3 20:10
标题: 关于离子清洗
离子清洗时，有没有可能将元件表面的加工的缺陷去除或部分去除掉。

作者: zz 时间: 2004-8-3 22:40

可以

作者: coatingzhang 时间: 2004-8-8 02:11

完全可以的，可以参见上海光机所他们最近的文章

作者: lavajydm 时间: 2004-8-11 04:46
肯定是可以的啊！

作者: lcoating 时间: 2004-8-23 05:41

要达到去除加工缺陷的程度，基片也一定被打得很毛了，可能增加膜层的缺陷与应力。

作者: vacuum 时间: 2004-9-21 20:09
很難吧,要到可以看到去除痕跡,那基材也孔孔洞洞了

作者: nanovac1 时间: 2004-10-18 16:50

这是一个很复杂的问题。光学镀膜离子清洗与半导体蚀刻接近。由于离子束方向性强，离子轰击后基本遵守原表面形貌。较难改善形貌，也不会破坏形貌。如果离子源质量较高，则会在一定程度上微消除缺陷。比如美国SKF公司用离子源轰击机械零件表面从而产生表面拓扑结构优化。

如果是离子辅助镀膜，则离子源改善膜层缺陷的作用是大大的。这方面有数不清的文献。

作者: wazxq 时间: 2004-10-18 21:09
表面的加工的缺陷指那些呢

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