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标题: 为什么我们镀的膜层容易出现印子(压克) [打印本页]

作者: 阿俊    时间: 2011-8-25 16:44
标题: 为什么我们镀的膜层容易出现印子(压克)
我们现在镀的镜片只要是用MGF2镀最后一层,就会出现印子,
膜系结构为AL2O3+H4+MGF2,
请问各位兄台,这是什么原因造成的,换用SIO2,就没有,
膜系结构为TIO2+SIO2
作者: xiao2011    时间: 2011-8-25 18:31

作者: xiazg    时间: 2011-8-26 09:22
嘉兴晶控电子有限公司(JJK)成立于2004年初,公司位于浙江省嘉兴市余新镇工业园区。是一家集研发、生产、销售石英晶振片和石英晶体微天平的科技型企业。
公司于2004年开始生产石英晶振片基片,并于2005年下半年大量供应美国市场,成为国内最大的石英晶振片基片生产商。经历4年技术和经验的沉淀之后,2008年JJK决心自创品牌,从美国引进先进的镀膜设备和检测设备,以一流的技术、一流的团队,凭借一流的基片,精心打造国内晶振片第一品牌。

为满足国内市场各种型号、规格晶控仪对晶振片的差异化需求,JJK精心设计和制造了多种不同规格的晶振片(5/6MHZ金、银、合金3种电极),并全面开拓国内市场。JJK晶振片不仅品种规格齐全,更重要的是,JJK晶振片品质性能的稳定性和可靠性与进口晶振片已无差距,可重复使用次数也达到了进口晶振片的水平。至2010年底,我们的客户达到400多家,产品广泛应用于光学镀膜、半导体(LED)行业,医疗、军事、航天等研究机构,远销美国、新加坡、德国、日本等海外市场,并受到业界的一致认可。现公司还有一些镀膜材料和晶振探头等产品。
联系人:夏志国  15068338773  QQ1046118891

作者: ghtzna    时间: 2011-8-26 11:05
觉得和你的原材有关系  
作者: Jimmy_tang    时间: 2011-8-26 13:58
MgF2不干净?
作者: Jimmy_tang    时间: 2011-8-26 13:58
MgF2不干净?
作者: john03062003    时间: 2011-8-27 22:57
与你的基底材料有关系

作者: cxm05371    时间: 2011-8-29 18:45
SIO2可以用于保护,MGF2在镀单层时可以做保护,多层结合时就要考虑基底材料了
作者: 阿俊    时间: 2011-8-31 09:56
如果和原材有关,那用tio2+sio2膜系就没有印子了,只是膜硬度无法达到客户要求。请各位大侠指导
作者: 逐梦者    时间: 2011-9-10 17:52
MgF2原来还有保护的作用,见识了
作者: 阿俊    时间: 2011-9-30 11:25
我自己先顶起
作者: 阿俊    时间: 2011-9-30 11:26
现在是镀单层mgf2都会出印子,烦呀
作者: fql3310    时间: 2011-10-2 17:23
像是有污染
作者: 阿俊    时间: 2011-10-17 15:07
谢谢大家的支持,问题已找到, 是晶控部位有轻微漏气,用丙酮打不出来,用测漏仪才检出。
作者: ipshjh2005    时间: 2011-10-18 07:09

作者: JINFENG215107    时间: 2011-10-18 14:56
可能真的是材料的问题材料有杂质或者是你基片的问题
作者: mfsw123    时间: 2011-10-19 06:09
学习了!!!
作者: 霹靂貓    时间: 2013-4-9 16:43
阿俊 发表于 2011-10-17 15:07
谢谢大家的支持,问题已找到, 是晶控部位有轻微漏气,用丙酮打不出来,用测漏仪才检出。

请问??是晶控什麽地方漏气会影响啊???

作者: 飛兲寶赑    时间: 2013-4-19 18:33
材料纯度不高
作者: 飛兲寶赑    时间: 2013-4-19 18:34

作者: clark007    时间: 2013-6-8 15:16
这个也太坑爹了
作者: wangjianheng1    时间: 2013-6-13 20:45

作者: yuliang518    时间: 2013-6-21 06:22
基底材料要处理洁净,

作者: wdydede    时间: 2019-7-2 21:59
为什么漏气就产生印子?氟化镁还是比较稳定的?
作者: JJK-晶振片-何    时间: 2019-7-3 08:47

作者: wdydede    时间: 2019-7-13 15:09
我猜你的基底是非环保zf系列玻璃
作者: 17873333033    时间: 2020-6-11 15:43
你基材是软材的,你直接用AL2O3+H4+AL2O3+H4这样去搭配,最后一层用硅去做
作者: 17873333033    时间: 2020-6-11 15:44
说错了,最后一层用氟化镁 MGF2温度还是高温,300多度去蒸发,AL2O3   4.0    H4    3.0     MGF2   5.0
作者: sery1234    时间: 2020-7-14 08:27
最近也有类似困惑,看看大家的思路,回去再总结下,我个人觉得基片的因素是不是会多些,特别是上面说的这种软材料,另外抛光未抛透是不是也会出现这种现象,欢迎交流




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