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标题: 膜料预熔问题 [打印本页]

作者: 缘睐汝痴 时间: 2011-9-26 18:35
标题: 膜料预熔问题
大家好，求教几个膜料预熔问题：
1.HFO2镀膜过程中容易打坑，大家是怎么解决的呢，有适当调节光斑大小吗
2.AL2O3预熔过程中，我发现真空度变化很大啊，我是5.0E-3开始熔的，在熔的过程中真空度会走到1.0E-2，熔H4的时候也差不多是这种情况，放气太大了，不知道正常不，像这种情况，是不是要熔时间长点呢，时间长了我又担心浪费太多膜料，大家是怎么做的呢
3.H4放气大的话，充氧气都没有什么作用了，那能充多少氧气呢
4.MGF2预熔我个人认为很重要，可是我总是把握不好那个镀，最近我们的玻璃一直有点子，我们的速率是7A/S，不知道是不是速率太大了，大家预熔MGF2是怎么操作的呢
谢谢大家了

作者: xiao2011 时间: 2011-9-26 20:49
AL2O3和H4放气大是正常的，MGF27A/S速率不大啊，我们都是用8,用20A/S都有

作者: xiao2011 时间: 2011-9-26 20:50
有点子是膜料没熔好，

作者: monggugi 时间: 2011-9-27 15:28
也可以换一家的膜料试一下吗

作者: captainH 时间: 2011-9-27 16:28
5.0E-3开始融料太迟了。
看来你多半都没有融透

作者: Jimmy_tang 时间: 2011-9-27 17:01
是说要预熔充分，对吧？

作者: royyang 时间: 2012-6-17 17:07
学习

作者: zhesky 时间: 2012-6-18 22:02
求真相

作者: wdydede 时间: 2012-6-20 12:22

作者: qs2784 时间: 2012-6-21 22:04
5.0E-02就可以预熔了吧

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