光电工程师社区

标题: 光刻胶光学性质的光谱椭偏测量方法研究 [打印本页]

作者: 测试 时间: 2011-10-8 09:04
标题: 光刻胶光学性质的光谱椭偏测量方法研究

光刻胶光学性质的光谱椭偏测量方法研究.pdf (222.59 KB, 下载次数: 4)

利用相调制型光谱椭偏仪研究了光刻胶光学常数的测量方法，针对测量过程中光刻胶曝光控制优化了测量方案和仪器参数。对常见的$9912正型光刻胶，给出了曝光前后275～650nm波段的光学常数。并采用动态椭偏法测量了所需波长下曝光前的光学常数。实验结果表明：该测量方法适用于光刻胶在紫外一可见．红外宽波段的光学性质研究，在光刻模拟、新型光刻胶材料研制及其光学性质表征等领域有重要实用价值。

作者: SRxiaoming 时间: 2012-6-18 13:48
THX！！！！！！！

作者: guochengzheng 时间: 2013-9-1 00:20
谢谢楼主分享

欢迎光临光电工程师社区 (http://bbs.oecr.com/)