光电工程师社区

标题: 氧化锆镀膜产生雾状求解 [打印本页]

作者: shuangzixing 时间: 2012-2-28 11:53
标题: 氧化锆镀膜产生雾状求解
国产机器镀氧化锆和氧化硅现在发现有白雾状（很均匀一层细细的也可理解试细点子）速率2.5 充氧温度180° 基本确定是氧化锆产生的。不知道啥原因。厚度越厚越容易看出求解。谢谢

作者: HGcoating 时间: 2012-2-28 16:03
速率提高点，充氧量降低试试看

作者: shuangzixing 时间: 2012-2-28 19:51
提高速率会更加产生雾状吗。你们镀膜后有没发现此类问题。谢谢

作者: shuangzixing 时间: 2012-2-28 19:52
提高速率会更加产生雾状吗。你们镀膜后有没发现此类问题。谢谢

作者: 想夜的雨 时间: 2012-2-28 22:52
二氧化锆还原时氧气不足造成的，提高氧气量

作者: shuangzixing 时间: 2012-3-2 18:06
好。我试试那你们氧化锆充氧量达到多少真空度.我们充氧后高真空到1*10-2

作者: shuangzixing 时间: 2012-3-2 18:08

想夜的雨发表于 2012-2-28 22:52
二氧化锆还原时氧气不足造成的，提高氧气量

你好。我们充氧后高真空在1*10-2.你们多少。可有的地方是不充氧的。

作者: 想夜的雨 时间: 2012-3-3 22:36
充氧后真空度维持在1.00*10-4T左右就可以了

作者: shuangzixing 时间: 2012-3-5 20:55
1*10-4高真空那不是没有冲氧进去啊

作者: 三月 时间: 2012-3-5 21:34
你的基片是什么，我们不充氧的，冷井好不好？

作者: 想夜的雨 时间: 2012-3-5 23:13
用压强控制仪可以的

作者: shuangzixing 时间: 2012-3-6 19:41
基片是K9 冷井好的。我们也有压强压控仪的基本在1*10-2

作者: HGcoating 时间: 2012-3-7 08:30
以上我说的不行，你就换别的厂家材料吧

作者: guhua530 时间: 2012-3-11 18:07

wo xiao de shen me yuan yin

作者: gxfdllg 时间: 2012-3-16 12:23
2.0*10-2帕试试看看，好友冷冻机除霜和冷冻有没有问题，药材是吧是不太纯，洗净工序有没有问题。

作者: shuangzixing 时间: 2012-3-30 19:14

guhua530 发表于 2012-3-11 18:07
wo xiao de shen me yuan yin

可以告诉我是啥原因吗谢了

作者: guhua530 时间: 2012-3-31 09:20

shuangzixing 发表于 2012-3-30 19:14
可以告诉我是啥原因吗谢了

280151250

作者: 良哥 时间: 2012-4-11 19:29
有没有可能是温度的原因啊，或者基片本身发霉了？

作者: shuangzixing 时间: 2012-4-12 07:49
温度我是控制在200°左右

作者: JINFENG215107 时间: 2012-4-12 15:08
师傅看来最近很困惑哇，老是有雾状日子不好过哇。哈哈。。。上面说的1*10-4T其实和你的1*10-2Pa差不多的，也就是说氧气的问题可以排除了。现在要么真空度以及材料。进口的膜料纯度高啊，而且杂质少啊。哈哈。。。技术么你没问题的哇

作者: shuangzixing 时间: 2012-4-13 07:55

JINFENG215107 发表于 2012-4-12 15:08
师傅看来最近很困惑哇，老是有雾状日子不好过哇。哈哈。。。上面说的1*10-4T其实和你的1*10-2Pa差不多的，也 ...

是啊。现在你的状况你也知道的。客户要求也越来越严格。所以很困惑啊！不过现在我们只要做要排球在10、20要求的我们基本都要把机器打扫干净后再镀膜，人就辛苦点啊。没办法。你还好吧，还是外资企业高端啊

作者: ipshjh2005 时间: 2012-5-6 19:36

作者: wdydede 时间: 2012-5-12 21:59
这种“雾”与TIO2/SIO2高反膜的“雾”是一样的相似吗？

作者: shuangzixing 时间: 2012-5-18 08:25
是的。一层很细很细的

作者: wdydede 时间: 2012-5-19 00:52
今天看了一下李正中先生的书，讲到TIO2/SIO2，TA2O5/SIO2的做法一般要加离子源助镀，温度一般只有150度。没有离子源没试过，

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