光电工程师社区

标题: 关于高面型薄膜 [打印本页]

作者: yibi11 时间: 2012-3-14 12:52
标题: 关于高面型薄膜
请问一下，有没有人做过高面型薄膜，有什么好的方法来做这个东东呢？当然，我是指高反膜，膜层较厚的情况。。。。先谢谢了。。。

作者: valle 时间: 2012-3-14 13:33
高面形是指RMS很小吗？

作者: tfc 时间: 2012-3-16 09:04
你是说面形变形非常小吗？

作者: yibi11 时间: 2012-3-16 16:00

valle 发表于 2012-3-14 13:33
高面形是指RMS很小吗？

应该说PV值更准确些。。。

作者: valle 时间: 2012-3-16 16:44
很少见有要求的P-V的，一般都只要求RMS呀，只有P-V值不代表面形好吧？

作者: wazxq 时间: 2012-3-16 22:59
离子源选择重要

作者: yibi11 时间: 2012-3-20 10:38

valle 发表于 2012-3-16 16:44
很少见有要求的P-V的，一般都只要求RMS呀，只有P-V值不代表面形好吧？

不好意思，前几天挺忙的，没有回复，其实对于冷加工这些名词我不是很透，不过我们这出去的东西都是看PV值，而且也是指面型型。

作者: yibi11 时间: 2012-3-20 10:41

wazxq 发表于 2012-3-16 22:59
离子源选择重要

我这倒有一个中科的霍尔离子源，不过老是出毛病，没怎么用，我到是想过离子源冷镀肯定对面型有好处的，不过不知道是不是考夫曼的离子源会好一点呢？

作者: nigoleo 时间: 2012-3-25 23:33
不使用离子源，镀后使用高温退火能改善面型

作者: yibi11 时间: 2012-3-26 10:29

nigoleo 发表于 2012-3-25 23:33
不使用离子源，镀后使用高温退火能改善面型

感谢。

我知道退火对面型的好处，那出此之外，还有没有其他的有效的方法来提高呢？另外，离子源会对面型造成什么样的影响呢？高面型薄膜真的不能使用离子源吗？

作者: nigoleo 时间: 2012-3-26 23:08

yibi11 发表于 2012-3-26 10:29
感谢。我知道退火对面型的好处，那出此之外，还有没有其他的有效的方法来提高呢？另外，离子源 ...

离子源会增强膜层的应力，致密性等等。有在使用离子源的情况下，高温退火所起的作用就减弱了许多。
如果一定要求要使用离子源的话，那么就根据实际镀处理的膜层是什么应力，通过冷加工加工高低光圈进行配合了。

作者: nkclone 时间: 2012-3-27 16:17
我觉得理论上，镀膜就不是一个均匀的过程，厚膜层必然导致PV值恶化。

我这边是这样做的：
1、基片面形首先要比较好；
2、试镀基片（可不管光洁度，但面形要与基片相同），
3、根据镀后结果，调整镀膜镜片的位置、重新调整修正板等等，
当然，如楼上讲的，冷加工要配合好

这样，应该能获得Dia70口径范围内，PV<0.1Lambda。

作者: yibi11 时间: 2012-3-28 11:37

nkclone 发表于 2012-3-27 16:17
我觉得理论上，镀膜就不是一个均匀的过程，厚膜层必然导致PV值恶化。

我这边是这样做的：

非常感谢！

欢迎光临光电工程师社区 (http://bbs.oecr.com/)