光电工程师社区

标题: SIO2 速率不稳定 [打印本页]

作者: swanson 时间: 2012-4-26 17:23
标题: SIO2 速率不稳定
请教各位：

SIO2速率非常不稳定。而且同样的参数，每次做出来的曲线又都不太一样。没有重复性。速率有时开挡板时一下冲到很高，然后电子枪不停的在修正功率，之后就是大幅度的跳跃，要很久才可以稳定。。要么就是一直在设定RATE上上下波动。。正负7的样子。。。一般都是做第一次时很不稳定，但第三次烧SIO2时就会变得稳定。波动也很小。疑惑的是SIO2不是直接升华的吗？为什么第三次才稳定。

同一车只有做SIO2时会不稳定。其他膜料都OK。。

1.修正过PID。。貌似没什么效果

2.晶振没有问题

3.电子枪也没问题

4.光斑试过很多，也都不太理想（主要是重复性差）

请大家帮忙分析下，还有什么地方可能出问题的、

谢谢

作者: buaa_dsw 时间: 2012-4-26 20:56
可能是SiO2不够致密，放气，导致沉积速度不稳。尝试使用其他厂家的石英环试试。
BTW：一开始跳很高，说明电流设置不合适，调节一下即可解决。

作者: guhua530 时间: 2012-4-26 22:07
是环形坩埚吗

作者: swanson 时间: 2012-4-27 10:32

自己頂起。。期望更多建議

作者: 良哥 时间: 2012-4-27 12:49
换个厂家的晶振片试试？

作者: fibercoating 时间: 2012-4-27 14:51
晶控是SQC310吗

作者: AR_coating 时间: 2012-5-2 13:01
Pre-conditioning the target is very important, make sure it is fully out-gasing.
Try non-PID, try to reduce the power increase rate. During soak2, set your power level slightly lower than the deposition power level.

作者: shuangzixing 时间: 2012-5-2 20:34
还有一点就是氧化硅要平整不要有坑洼。速率不稳设定好蒸发功率。是不是太高了

作者: jasmine131415 时间: 2012-5-3 10:25
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作者: xxwy 时间: 2012-5-13 21:43
情况有点复杂

作者: laoxianccc 时间: 2013-5-22 20:58

作者: 老城 时间: 2013-6-2 02:08
我也是用SIO2 ,,,,我用的还挺稳定的啊。。。你这种情况，我应该是电流设置的不合适，，，扫描，，光斑，，，，请多指教。。。

作者: qs2784 时间: 2013-6-10 11:43
你的腔体真空度稳定吗真空不稳定也会影响成膜速度

作者: ghtzna 时间: 2013-6-10 14:52
game ratio 设置，预融电流过低在镀膜前没达到合适的参数

作者: 宇宙深处 时间: 2013-6-24 11:23
这种情况PID问题比较大一点。当然你刚才说的几个方面也是造成这种现象的原因。可能你还是要在这几个方面仔细再分析。至于膜材只要是正常的市面上的都没有太大的问题。

作者: rollo_tomasi 时间: 2014-1-13 16:45
1、膜料添加时要保证表面平整，别坑坑洼洼
2、如果速率规则的起伏，且起伏周期稳定，那就是PID的问题，需要调整
3、开挡板瞬间速率窜高，说明的你预蒸发功率太大，需要降低
4、确保枪灯丝稳定，不要出现打火

作者: bluesun 时间: 2014-1-28 14:02

rollo_tomasi 发表于 2014-1-13 16:45
1、膜料添加时要保证表面平整，别坑坑洼洼
2、如果速率规则的起伏，且起伏周期稳定，那就是PID的问题，需要 ...

NOD 应该是预置热问题

作者: linna9222 时间: 2014-4-4 21:06
束斑调大些，速率调整的速度要慢些，调整值大些，调整幅度越小速率起伏的越大。

作者: Fly飞 时间: 2014-5-1 10:28
看看SIO的电子枪调功器有没有问题？

作者: liyesheng22 时间: 2014-6-2 23:33

作者: hrhhrh 时间: 2014-6-3 07:55
1.料的问题
2.枪的问题
3.预熔的问题

作者: yzhuang 时间: 2015-3-14 19:08
PID问题的可能性大

作者: maray 时间: 2015-3-23 15:53

作者: 李昌瑞 时间: 2015-4-4 15:26
现在我这边也是这个问题。PID 调节了预熔功率也调节了反应不是很理想 SIO2波动大有时候曲线波长跑动很多。很郁闷你那边这个问题解决没有？ PID调节后是有好转扫描方面我也考虑过但是效果不是很理想

作者: MorningTech 时间: 2015-4-5 08:46
本帖最后由 MorningTech 于 2015-4-11 08:26 编辑

1.x
2.x
3.x
4. 上海膜林晶控仪有探头检测功能，呵呵，PID调节快速稳定，简单易用而且质优价廉。

作者: fql3310 时间: 2015-4-23 00:23
还缺少了一些最基础的因素.也是最主要的因素.

作者: 牛牛轉轉圈 时间: 2015-4-24 13:29
光斑設大一點試試!!!

作者: MorningTech 时间: 2015-5-11 09:59

fql3310 发表于 2015-4-23 00:23
还缺少了一些最基础的因素.也是最主要的因素.

基础和主要的因素分享一下?

作者: wjwvsly 时间: 2015-5-11 15:31
从我的角度来看，应该是SIO2材料的问题，可以通过调整SIO2预制热的能量和时间来改善。

作者: fql3310 时间: 2016-3-3 22:14

MorningTech 发表于 2015-5-11 09:59
基础和主要的因素分享一下?

真空室清洁程度、晶振片附近防污板更换与清洁、每炉勤换几块防污板。
重复性不好说明你车间水气方面控制不好。关门之前稍微烘烤一下。

作者: MorningTech 时间: 2016-3-5 19:49

fql3310 发表于 2016-3-3 22:14
真空室清洁程度、晶振片附近防污板更换与清洁、每炉勤换几块防污板。
重复性不好说明你车间水气方面控制 ...

2016.03.15-17 欢迎来上海光博会 w3.3352 交流.

作者: maomao1112 时间: 2019-1-13 09:29

作者: 17873333033 时间: 2020-5-20 10:29
赞成楼上的说法

作者: sery1234 时间: 2020-5-29 13:47

17873333033 发表于 2020-5-20 10:29
赞成楼上的说法

仔细看了你描述的情况，开始冲很高，这个要处理两个问题，一是预熔功率没有处理好，如果一下就冲很高，是太大了，半天不起来，起来就冲很高，是预熔功率太小，而max power太大

作者: sery1234 时间: 2020-5-29 13:49

sery1234 发表于 2020-5-29 13:47
仔细看了你描述的情况，开始冲很高，这个要处理两个问题，一是预熔功率没有处理好，如果一下就冲很高，是 ...

以上问题处理好了波动还大的话，可能需要适当调整PID

作者: hhgx666 时间: 2020-6-3 16:01
我的也是这么个情况，一直在调整中

作者: 17873333033 时间: 2020-6-9 11:17
材料致密性不好，纯度不够，放气太大。换我家的材料试试；178 7333 3033 免费提供样品测试

作者: 1234yun 时间: 2020-9-11 10:32

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