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标题: 镀膜速率太高对膜有什么影响? [打印本页]

作者: gxfdllg    时间: 2012-5-2 18:37
标题: 镀膜速率太高对膜有什么影响?
  镀膜速率太高对膜有怎么样的影响?(一般镀膜材料)  本人也知道就是不怎么全面!
作者: shuangzixing    时间: 2012-5-2 20:31
太快膜层太松
作者: guhua530    时间: 2012-5-2 20:32
光洁度、膜的密度等

作者: E501559    时间: 2012-5-3 08:25
影响膜层的附着力
作者: jasmine131415    时间: 2012-5-3 10:16
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作者: gxfdllg    时间: 2012-5-3 17:56
guhua530 发表于 2012-5-2 20:32
光洁度、膜的密度等

谢谢,但是不够全面,我对致密度、膜的强度、内应力、迁移???
作者: dyfdudu    时间: 2012-5-3 18:25
每种膜料的速率是不一样的,速率太高或太低会影响膜层的厚度和密度。太高的话膜层密度要低,会有大的颗粒蒸发到镀层上面。
作者: dyfdudu    时间: 2012-5-3 18:26
每种膜料的速率是不一样的,速率太高或太低会影响膜层的厚度和密度。太高的话膜层密度要低,会有大的颗粒蒸发到镀层上面。
作者: xslaser    时间: 2012-5-4 10:54
嗯 速率太高或太低会影响膜层的厚度和密度
作者: 飞鸿腾达    时间: 2012-5-4 20:50
这个要看什么材料的哈,如高固态的材料,建议束流低一点,高的话,膜的结构很松不紧密,表面光洁度很粗糙,容易膜变,起雾,曲线更会飘逸哈,像MGF2这种融化后成液态的那束流稍微快点,不然料不完全融化,敏感度很强,很难控制。
作者: royyang    时间: 2012-6-26 19:08
学习,受教
作者: fql3310    时间: 2012-6-27 21:08
还是离子源这块,国产机镀TA2O5 1.5埃每秒(伞型工件),进口机集中型离子源(集中型离子源)0.8埃每秒(APS1104),片子不大直径不到20厘米。分散型离子源APS904,也是伞形工件,0.25埃每秒。
作者: fql3310    时间: 2012-6-27 21:10
SIO2集中型离子源,可以达到15埃每秒,而且膜层很致密。
作者: gxfdllg    时间: 2013-4-10 09:54
fql3310 发表于 2012-6-27 21:10
SIO2集中型离子源,可以达到15埃每秒,而且膜层很致密。

谢谢,SIO2蒸发快为什么膜会疏松?
作者: gxfdllg    时间: 2013-4-10 09:56
飞鸿腾达 发表于 2012-5-4 20:50
这个要看什么材料的哈,如高固态的材料,建议束流低一点,高的话,膜的结构很松不紧密,表面光洁度很粗糙, ...

谢谢,那SIO2蒸发快膜会疏松吗,为什么?
作者: fql3310    时间: 2013-4-10 21:35
SIO2蒸发快,膜层也会致密,压应力比一般速率镀的要大点,
作者: 飛兲寶赑    时间: 2013-4-16 18:11
快了会调膜
作者: xiao2011    时间: 2013-4-16 22:16

作者: huoredexin    时间: 2018-7-22 10:32
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