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标题: 镀ITO的时候，出现很多whisker(细须, 须晶) [打印本页]

作者: AR_coating 时间: 2012-5-21 14:37
标题: 镀ITO的时候，出现很多whisker(细须, 须晶)
最近镀ITO的时候，发现在wafer上有很多whisker(细须, 须晶)，但同时作为厚度验证的硅衬底上却没有。所有参数都和以前一样，不知道是什么问题？哪位专家有经验？多谢了。

作者: shuangzixing 时间: 2012-5-25 10:17
镀在啥基片上。是用单一的膜料吗

作者: jitaomath 时间: 2012-9-6 22:34
应该是基板上有参杂形成的缺陷，
增加通氧量试试，或者减少镀率

作者: 2011059 时间: 2012-9-7 11:17

路ˋ過學習

作者: crl0129 时间: 2014-1-16 12:50

作者: yuliang518 时间: 2014-5-19 17:48

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