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标题: [求助]关于离子辅助 [打印本页]

作者: vietti 时间: 2004-8-31 17:18
标题: [求助]关于离子辅助

离子辅助镀完一层膜后，厚度控制的刚好

可镀下一层时因要预熔，预熔时离子会把上一层

的膜打掉一些吧？

该怎么控制呢？

作者: zz 时间: 2004-8-31 17:47

你那是啥源啊！何况你也用不着开那么大的能量吧。

作者: guangang 时间: 2004-8-31 18:26

你的離子源沒有擋板麼？

裝一個擋板不就OK了？

作者: Leesnow 时间: 2004-8-31 18:31

对啊,有挡板啊,而且可以控制打开和关闭的时间的啊!

作者: guangang 时间: 2004-8-31 23:27
那你预熔的时候把挡板关上，镀的时候再打开就没有关系了么？坩埚挡板和离子源挡板同时打开，基本上没有什么影响，除非你的离子源有问题，或者是能量太大了！！

作者: bohr123 时间: 2004-9-2 07:19

不错，有当班

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