不能这么笼统的说吧,例如你的设备有离子源,那么相应的参数就会有一定的蒸发速率,如果不同呢,那么首先折射率会改变,然后有可能引起吸收,如果再大的话,膜的晶状结构就会发生变化(我只是知道,还没有见过啊^_^)......不过,有的介质就不会有那么大的变化,如sio2!如果你的设备上面没有离子源,那么....我也不知道了,谁知道上来说说啊!
----------------------------------------------其他条件相同的情况下
沉积速率大，达到基地的物质来不及扩散，会使膜变得疏松，影响膜的致密性
（新手，不知道说得对不对，望指教）
若沉积速率大，
材料的折射率会有变化，可能影响光性；
材料容易喷溅，导致膜面容易出现点子；
薄膜的均匀性受影响；
沉积速率大，达到基地的物质来不及扩散，会使膜变得疏松，影响膜的致密性
（新手，不知道说得对不对，望指教）
最好有实验数据表明沉积速率与致密性的关系。我也可以说，沉积速率大了，到达基底的物质来不及散开，会使膜变得致密，呵呵
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不能这么笼统的说吧,例如你的设备有离子源,那么相应的参数就会有一定的蒸发速率,如果不同呢,那么首先折射率会改变,然后有可能引起吸收,如果再大的话,膜的晶状结构就会发生变化(我只是知道,还没有见过啊^_^)......不过,有的介质就不会有那么大的变化,如sio2!如果你的设备上面没有离子源,那么....我也不知道了,谁知道上来说说啊!
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怎么总对自已没有信心，我觉得分析很有道理，速率绝对有好处－－－效率高（能多赚钱）有些厂家就采用这方法生产IR-CUT，搞得市场混乱，价格狂跌！现在这段时间大家最好少买摄像头，价实货不真，差得要命，不如各位是否有同感？上面问题在杭州光会的光盘中有些论述。
有的说增加致密性，有的说降低致密性。
到底是怎样呢？
继续讨论........
理论上速率高是可以增加膜料的折射率的,不同的材料增加的程度是不一样的!真空度高也能提高折射率,还有温度越高折射率越高.
镀膜的三个基本要素:基底温度,真空度,蒸发速率(T.P,V)
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