光电工程师社区

标题: HR R>97%@300-450,I=45度 [打印本页]

作者: fql3310 时间: 2012-9-6 00:35
标题: HR R>97%@300-450,I=45度
基材是熔石英，想用ZRO2这个膜料来镀。还真是做不出来。
充氧压强，离子源氧气工作加压强氧气，氩气工作氧气放于片子二十厘米处。三种模式都镀不出来。记得好像最后面的曲线会更好一点－－用了119层。用考夫曼离子源。
难道非得用VEECO机来镀才行？

作者: valle 时间: 2012-9-6 08:49
你是用现在的机器镀119层？

作者: qjy 时间: 2012-9-6 21:23
人才呀！这个要求选用ZrO2，还用了119层的膜系，最后还没做出来，真的是五体投地了，佩服呀

作者: fql3310 时间: 2012-9-6 21:38
你是什么公司？报上名来，或者QQ联系我，我QQ123831403，楼上的做得了的联系我。这个产品会拿去直接测反射。没问题的话你就联系我吧。

作者: zouyou828459 时间: 2012-9-6 23:11
高反膜的膜层不能太多的，刚好就行

作者: zunxiu0214 时间: 2012-9-7 08:58
人才这种用到119层。。。

作者: hzkd 时间: 2012-9-7 10:25
用HfO2 ZrO2不行吧！控制一下膜层的总厚度！

作者: zouyou828459 时间: 2012-9-7 21:25
二氧化锆绝对可以做到，而且要用正确的镀膜手法，用离子源的话有可能做不了，不用离子源去做试试，楼主

作者: fql3310 时间: 2012-9-13 23:41
嗯，谢谢，有个国外的朋友说过，用莱宝机用ZRO2和SIO2镀过比这更高的反射。

作者: captainH 时间: 2012-9-14 08:09

作者: fql3310 时间: 2012-9-14 19:36
有话就说，不要扯淡。

作者: zouyou828459 时间: 2012-9-15 11:39
你好，我也是在上海，你QQ是多少，我的是196893618，想加你的QQ互想交流交流可以吗？

作者: rkq91 时间: 2012-10-9 21:54
回帖，是一种美德

作者: kelvin874874 时间: 2012-10-17 11:19
TiO2, SiO2試試看

作者: qjy 时间: 2012-10-17 16:30

kelvin874874 发表于 2012-10-17 11:19
TiO2, SiO2試試看

这两种材料还有试的意义和必要吗？

作者: HGcoating 时间: 2012-10-17 16:37
ZRO2应该可以做出来，估计五六十层吧

作者: qasy 时间: 2012-10-17 20:45
captainH兄，你笑什么

作者: rollo_tomasi 时间: 2014-2-25 11:06
建议用HfO2和SiO2。
我做过类似的高反，不过是250nm的零度入射角，测量曲线如附件图片，两组曲线分别是HfO2+SiO2（蓝色），ZrO2+SiO2（红色），而且都是25层，但是都是0°入射角的设计和测量。很明显，ZrO2在300nm处事有吸收的，所以300-450nm的HR不太建议用ZrO2。
不过难点是45°入射角，R＞97%相当难！

0°绝对反射.jpg (576.14 KB, 下载次数: 114)

作者: rollo_tomasi 时间: 2014-2-25 11:07
而且ZrO2+SiO2不适合在石英玻璃基底上做多层介质膜，因为应力关系，容易膜裂！

作者: wdydede 时间: 2014-2-26 22:23
向高手们学习，向高手们致敬

作者: 良哥 时间: 2014-3-3 11:40
楼主最终做出来了吗？

作者: xiezhizhi188 时间: 2014-3-3 20:45
jb

作者: 强子 时间: 2014-3-18 11:23
怎么不考虑TA2O5呢

作者: fql3310 时间: 2014-3-19 14:24
Ta2o5 355波长就吸收了，反射就不高了。

作者: lovemannyzhu 时间: 2014-4-2 20:49

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