光电工程师社区

标题: 请教:AL2O3 折射率的控制 [打印本页]

作者: DANNY    时间: 2004-9-5 22:40
标题: 请教:AL2O3 折射率的控制
AL2O3 理论折射率是1.6687(632nm),我镀出来膜折射率总是在1.60以下,我的目标是1.64以上!有什么办法
作者: cjyzq    时间: 2004-9-6 04:12
提高蒸发速率、使用离子源。
作者: zz    时间: 2004-9-6 16:04
计算方法是否正确
作者: guangang    时间: 2004-9-6 18:18
氧氣充少一些!!
作者: showashinku    时间: 2004-9-6 23:42
氧气少一些会提高折射率
作者: flyinlove79111    时间: 2004-9-7 01:10

一般的机子上可以做到1.62,没有离子源的情况下1.64可能做不到吧


作者: DANNY    时间: 2004-9-8 16:57
氧气少一些会提高折射率 !那么不加氧气会怎么样!因为我想提高真空度(6*10E-4)
作者: zz    时间: 2004-9-9 16:27
适当充O2,你那单位是PA还是TOR?
作者: yakochen    时间: 2004-9-9 18:45

基片能加热吗?这样也能提高折射率,不需离子源。


作者: deveitu    时间: 2004-9-9 23:04
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作者: DANNY    时间: 2004-9-9 23:05
加热 T=300°C,真空度单位是PA
作者: DANNY    时间: 2004-9-14 23:09
谢谢你们!我已经得到我要的结果了!
作者: littlefun    时间: 2004-9-16 16:21

得到结果了,说一下采取的方法撒,也给其他人指条明路。


作者: ic5    时间: 2004-9-16 16:30

是啊,DANNY,这些经验性的东西和大家共享一下啊,说说你采用了什么方法了???


作者: DANNY    时间: 2004-9-18 16:31

我分别使用日本昭和镀膜机和成都镀膜机做了实验(都不带离子源)

日本昭和镀膜机Al2O3 折射率基本能保持在1.63以上,甚至能达到1.65

成都镀膜机每次结果不一样,还没有解决彻底解决方法!

要点:1)真空度大于 3.0*10E-4 Pa 2)基片加热 300°C 3)不加氧气 4)Al2O3 放气充分


作者: pangkebai    时间: 2012-6-13 21:41
不加氧气怎么可能是氧化物呢




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