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标题: [求助]薄層厚度問題 [打印本页]

作者: 默默走开0.o 时间: 2013-12-4 07:07
标题: [求助]薄層厚度問題
目前公司使用光馳機台

但是為了客戶需求所以在設計上必須穿插低厚的的薄層來達到客戶規範

但是出來的光譜卻不盡理想

用TFC及Macleod模擬出來都是為薄層多鍍及少鍍所造成

公司所使用為 Ti3O5 及 SiO2 這2種藥材

使用鍍率為 3Å/sec 及 8Å/sec

薄層厚度最低為 8nm 物理厚度

都是用光學監控想說是否有人可以指導一下

作者: MorningTech 时间: 2013-12-4 09:45
薄层的厚度监控改用晶控来做试试。
8nm薄层是Ti3O5还是 SiO2 ?
//如果薄层在新光控片上，停止信号将在极值附近，信号对厚度不敏感。

作者: 风寒雪月缺 时间: 2013-12-4 10:30
薄层还是尽量避免的好，这个应该是有办法的，你好好算算。
薄层用光学监控不行吧，没那么敏感，晶控还可以。不过批次稳定性还是不好，还是想办法消除薄层。

作者: 默默走开0.o 时间: 2013-12-6 10:13
是阿，我也是都避免薄層的存在

但還是有出現

有改用膜厚監控來使用，跟先前用光控比起來好多了

8mm 是 SiO2 ..

作者: MorningTech 时间: 2013-12-6 10:45

默默走开0.o 发表于 2013-12-6 10:13
是阿，我也是都避免薄層的存在

但還是有出現

恭喜。
好在薄层是 SiO2，用晶控直接监控问题还不算大，晶控真实监控误差一般会在 1nm以内。
否则你会发现误差还是稍大一点点的，更确切的说是偏差，呵呵。

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