光电工程师社区

标题: 镀窄带出现无规律漂移现象，大神来给看看啊 [打印本页]

作者: haisheng_0_0 时间: 2014-3-20 19:17
标题: 镀窄带出现无规律漂移现象，大神来给看看啊
我们最近镀的窄带出现无规律漂移。

机器：光驰OTFC-1100，2007年买的。光学间接监控，晶控辅助,离子源，控制波长1084NM。

膜料：sio2,ta2o5.

膜系要求：1064NM在0°12°15°，T>80%。这样就设计出来一个半波在20NM左右的一个窄带，0°中心波长在1073nm。我们设计的膜系是44层。

现象：无规律的偏薄或者偏厚5～20NM，这样膜就用不成了。经常前一罩完全正常，后一罩就漂移了。也有连着好几罩正常，突然出现漂移的。出现漂移后，我们修改控制波长进行修正，会出现膜系完全和上罩曲线一样，没动的现象。再修改控制波长，，膜系会移动两次修正之和的位置。有点乱啊，呵呵，举个例子啊，这次是中心波长在1078，我控制波长移薄5个，正常的话出来的中心波长应该在1073，结果出来中心波长还在1078，然后我又移薄5个，这次出来的中心波长却是在1068位置。好几次都是这样。但是镀截止膜的时候几乎没出现过这种情况。

解决办法：1.先是怀疑单色仪有问题，换来厂家的装上，没解决。

            2.我们有红外单色仪，换上用红外波长控制，没解决。

            3.换控制波长，波长换到700，没解决。

            4.厂家说可能是装光控片的托盘时间长变形了，买来新的换上，用平行度小的光控片，没解决。

            5.怀疑离子源问题，买来新的栅网换上，没解决。

            6.更换旋转架滚珠，没解决。

            7.更换修正板，没解决。

            8.测量温度，正常，没解决。

目前就实验了这么多办法，实在想不出来了，各位同行有没有好的提议，大家都来讨论交流一下。

作者: haisheng_0_0 时间: 2014-3-26 09:20
看来这个论坛是没啥高手啦，唉～

作者: coaterxf 时间: 2014-3-26 11:51

haisheng_0_0 发表于 2014-3-26 09:20
看来这个论坛是没啥高手啦，唉～

是否可以验证下折射率是否稳定？做单层膜看看。

作者: ouyuu 时间: 2014-3-26 13:24
分布如何?最薄层是多厚,这个层的速率和伞架转速多少?

作者: ouyuu 时间: 2014-3-26 13:29
重复性不好,通常是薄层发生偏差.
发生原因有很多,比如说伞架转速不稳定,
电子枪不稳定.
另外,光控的截止波长也很重要,尽量避开PEAK

作者: haisheng_0_0 时间: 2014-3-27 08:20
嘿嘿，看来激将有用哦，各位不要怪罪啊

作者: haisheng_0_0 时间: 2014-3-27 08:28
本帖最后由 haisheng_0_0 于 2014-3-27 08:33 编辑

ouyuu 发表于 2014-3-26 13:24
分布如何?最薄层是多厚,这个层的速率和伞架转速多少?

谢谢您的回复。最薄层是最后2层，消除次峰的作用，大概是700NM波长的1.5个极值吧，其他层都是1067NM波长的1～2个极值多。我现在在家，具体的说不上来。伞架转速和层的速率一直都没有改动过，我们用这个膜系已经有6年时间了。伞架转动速度我们还做过记录，没有异常。

作者: 大大鸟鸟 时间: 2014-3-28 15:42
本帖最后由大大鸟鸟于 2014-3-28 15:45 编辑

你说你们这个膜系做了6年了？现在突然不正常了吗？

作者: coaterxf 时间: 2014-3-29 12:01
给你一个风险点供参考：
首先是设备硬件不稳定造成的，修改工艺参数没意义。
可能是监控膜厚的系统不稳定造成的，你修改中心波长或监控波长不解决问题，舍本逐末了。
间接式光控注意下monitor附近的温度是否变化，我以前碰到过这个问题。监控片温度变化了，测试的膜厚也会变化，其实就是tooling变化了。

作者: MorningTech 时间: 2014-3-29 14:33
成膜LogData里，有每层膜的物理厚度，对比着看看。

作者: 苏州膜头 时间: 2014-3-29 20:05
这个问题每个镀膜人都会碰到的吧？？
是不是真空有问题？充氧的时候看看真空稳不稳。漏气或者充氧不稳定可能性很大。总之一切皆有可能。

作者: yuliang518 时间: 2014-3-30 21:12

作者: coaterxf 时间: 2014-4-1 18:02

coaterxf 发表于 2014-3-29 12:01
给你一个风险点供参考：
首先是设备硬件不稳定造成的，修改工艺参数没意义。
可能是监控膜厚的系统不稳定 ...

龙翩机的光控那里有温度探头，光驰机就不知道了。
加热装置和冷却系统都检查下吧，做下清洗。

作者: coaterxf 时间: 2014-4-1 18:15
shutter的开关速度是否正常？
有没有材料绕射过shutter?

作者: coaterxf 时间: 2014-4-1 18:25
产品倾斜20°测试，看通带透射率的变化。如果和0°测试差不多，就是整体镀多镀少的问题，那就找影响tooling的因素。如果透射率变化了，你在TFC中模拟下就知道哪种材料相对镀多了。

作者: lovemannyzhu 时间: 2014-4-2 20:41
機台不穩定吧

作者: whpe2000 时间: 2014-4-9 20:20
提示: 作者被禁止或删除内容自动屏蔽

作者: MorningTech 时间: 2014-4-9 21:58

whpe2000 发表于 2014-4-9 20:20
在论坛上好久没看到这样讨论技术问题的帖子了

光驰的设备使用间接光控的方式监控,在镀窄带滤光片 ...

O在10年也推出直接光控了，还不错的。
1000nm附近，20nm带宽是比较考验非直接监控的，对直控来说压力不大，但产量会低些。
漂移问题，一般不在监控信号本身，而在于比例系数即Tooling的变化。

作者: coaterxf 时间: 2014-4-16 17:45

MorningTech 发表于 2014-4-9 21:58
O在10年也推出直接光控了，还不错的。
1000nm附近，20nm带宽是比较考验非直接监控的，对直控来说压力不大 ...

现在做CVD镀膜，在球面上做IR Cut，才体会到简单的才是难的。
温度和真空度最简单，但是在管道、阀门、流量计等各个环节的真空度和温度真的清楚吗，这些基本的因素对工艺气体的物理特性有什么影响，往往是牵一发而动全身，忽视了一个很小的细节就会失败。
工艺是建立在硬件基础上的，不了解硬件的工作原理和结构就想做好工艺很难。

作者: 宇宙深处 时间: 2014-4-18 18:50
看完了，基本同意17楼的说法。但楼主说此膜系用了6年。我想最近有没有其它的条件有变化（镀膜的变量太多了）。我说两个看似不着边际，但也有可能的因素。1、工作气体的纯度？2、工作环境是否有磁干扰。

作者: wdydede 时间: 2014-4-18 23:33

作者: haisheng_0_0 时间: 2014-4-21 16:01

宇宙深处发表于 2014-4-18 18:50
看完了，基本同意17楼的说法。但楼主说此膜系用了6年。我想最近有没有其它的条件有变化（镀膜的变量太多了） ...

要是监控方式问题的话，那就没救啦，机器就是这样设计的啊。只能理解为工作年限到了，误差出来了。气体纯度会影响漂移？是来回的飘啊，一瓶气体用很久的啊。机器周围磁场应该没关系，因为这几年机器周围环境没有什么变动，也没有增添新设备再周围。
还发现一个问题，不动控制波长的话是小范围的飘，2NM左右。如果动了话就大范围的飘了，10-20NM了。

作者: MorningTech 时间: 2014-4-21 16:17

haisheng_0_0 发表于 2014-4-21 16:01
要是监控方式问题的话，那就没救啦，机器就是这样设计的啊。只能理解为工作年限到了，误差出来了。气体纯 ...

控制波长不动，用一个波长监控到底？
非规整，两层一个比较片，还是规整的？

作者: haisheng_0_0 时间: 2014-4-23 08:32

MorningTech 发表于 2014-4-21 16:17
控制波长不动，用一个波长监控到底？
非规整，两层一个比较片，还是规整的？

规整膜系。2层一个监控位置。只是最后2层用了短波长监控，试过用一个波长监控到底，没用。

作者: MorningTech 时间: 2014-4-23 14:40

haisheng_0_0 发表于 2014-4-23 08:32
规整膜系。2层一个监控位置。只是最后2层用了短波长监控，试过用一个波长监控到底，没用。

从最后两层的作用来看，与带通中心波长位置无关，所以它的监控波长是不会影响中心波长的。

" 用一个波长监控偏差只有 2nm 偏差"。还达不到要求？ (我怀疑)这个现象是偶然的吧。

作者: haisheng_0_0 时间: 2014-4-30 10:02

MorningTech 发表于 2014-4-23 14:40
从最后两层的作用来看，与带通中心波长位置无关，所以它的监控波长是不会影响中心波长的。

" 用一个 ...

经常性出现偏差，就不是偶然了。而且还不敢移动控制波长，不然跑的更远，

欢迎光临光电工程师社区 (http://bbs.oecr.com/)